[发明专利]一种纳米硫化锡基光催化剂及其制备方法与应用

权利要求书

1.一种纳米硫化锡基光催化剂，其特征在于，包括：六方相SnS₂纳米片，以及镶嵌在所述六方相SnS₂纳米片中的SnO₂纳米晶粒和硫空位缺陷，且SnO₂纳米晶粒与六方相SnS₂纳米片形成面内SnS₂/SnO₂异质结；

所述纳米硫化锡基光催化剂的制备方法为：将SnS₂粉体和氧化剂置于高能球磨机中进行高能球磨处理，得到所述纳米硫化锡基光催化剂；所述氧化剂为空气、氧气和高氯酸盐中的至少一种。

2.根据权利要求1所述的纳米硫化锡基光催化剂，其特征在于，所述六方相SnS₂纳米片的二维尺寸为100～200 nm，厚度为3～30 nm。

3.根据权利要求1所述的纳米硫化锡基光催化剂，其特征在于，所述SnO₂纳米晶粒的直径≤5 nm。

4.根据权利要求1所述的纳米硫化锡基光催化剂，其特征在于，所述高氯酸盐选自高氯酸钾、高氯酸钠和高氯酸锂中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的纳米硫化锡基光催化剂，其特征在于，所述高氯酸盐和SnS₂粉体的质量比为1/10～1/20。

6.根据权利要求1所述的纳米硫化锡基光催化剂，其特征在于，采用固相反应法制备SnS₂粉体，包括：按照摩尔比1:2称量Sn粉和S粉并混合压片，再密封于石英管中，在550～650℃下固相反应10～24小时，得到所述SnS₂粉体。

7.根据权利要求6所述的纳米硫化锡基光催化剂，其特征在于，所述固相反应的升温速率为0.5～5℃/分钟。

8.根据权利要求1所述的纳米硫化锡基光催化剂，其特征在于，所述高能球磨处理的参数包括：球磨转速为400～800转/分钟；球磨时间为100～300分钟。

9.根据权利要求1所述的纳米硫化锡基光催化剂，其特征在于，所述高能球磨处理的球磨介质为无水乙醇、去离子水中至少一种，所述球磨介质和SnS₂粉体的质量比为1～3：1。

10.根据权利要求1-9中任一项所述的纳米硫化锡基光催化剂，其特征在于，在高能球磨处理过程中，选用二氧化锆球、氧化铝球、二氧化硅球中至少一种作为磨球，所述磨球和SnS₂粉体的质量比为60：1～10。

11.一种权利要求1-10中任一项所述的纳米硫化锡基光催化剂在光催化领域中的应用。