[发明专利]光谱学和成像系统

权利要求书

1.一种用于表征样品的设备，其包括：

第一检测器，其用于成像或光谱学；

第二检测器，其用于成像或光谱学；和

环形电容器型静电能量分析仪；

所述环形电容器型静电能量分析仪包括第一和第二入口孔，所述第一和第二入口孔被布置成使得从样品发射并穿过所述第一入口孔的带电粒子横穿通过所述环形电容器型静电能量分析仪的第一轨迹，以入射在所述第一检测器处，并且从样品发射并穿过所述第二入口孔的带电粒子横穿通过所述环形电容器型静电能量分析仪的第二轨迹，以入射在所述第二检测器处；

所述设备还包括偏转组件，所述偏转组件被布置成将从所述样品发射的带电粒子沿第一路径引向所述第一入口孔和/或沿第二路径引向所述环形电容器型静电能量分析仪的所述第二入口孔。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一检测器用于成像，并且所述第二检测器用于光谱学。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的设备，其中所述环形电容器型静电能量分析仪的所述第一入口孔从所述环形电容器型静电能量分析仪的所述第二入口孔偏移一个方位角。

4.根据任一前述权利要求所述的设备，其中所述偏转组件被布置成引导从样品发射的带电粒子远离所述第一路径而沿所述第二路径穿行。

5.根据权利要求4所述的设备，其中所述偏转组件包括第一偏转器和第二偏转器，所述第一偏转器被布置成使所述带电粒子从所述第一路径偏转，所述第二偏转器被布置成进一步使经偏转的带电粒子朝向所述环形电容器型静电能量分析仪的所述第二入口孔偏转。

6.根据任一前述权利要求所述的设备，其还包括位于所述第一路径或所述第二路径上的旋转器光学器件，所述旋转器光学器件被布置成使得带电粒子在分别穿过所述第一或所述第二入口孔之前穿过所述旋转器光学器件。

7.根据权利要求6所述的设备，其中所述旋转器光学器件布置在所述第二路径上。

8.根据任一前述权利要求所述的设备，其中所述环形电容器型静电能量分析仪还包括第一和第二出口孔，所述第一和第二出口孔被布置成使得横穿通过所述环形电容器型静电能量分析仪的所述第一轨迹的带电粒子穿过所述第一出口孔，并且横穿通过所述环形电容器型静电能量分析仪的所述第二轨迹的带电粒子穿过所述第二出口孔。

9.根据权利要求8所述的设备，其中所述第一和所述第二出口孔分别包括第一和第二出口狭缝，并且其中所述第一和第二出口狭缝在垂直于所述环形电容器型静电能量分析仪的出口平面的径向方向上具有长度，并且其中所述第二出口狭缝的所述长度大于所述第一出口狭缝的所述长度。

10.根据任一前述权利要求所述的设备，其中所述环形电容器型静电能量分析仪为半球形静电分析仪。

11.一种表征样品的方法，其包括：

在环形电容器型静电能量分析仪处接收从样品发射的带电粒子，其中所述环形电容器型静电能量分析仪包括第一和第二入口孔，并且接收的带电粒子在进入所述环形电容器型静电能量分析仪时已穿过所述第一或所述第二入口孔；和

使通过所述第一入口孔接收的所述带电粒子在第一轨迹上穿过所述静电分析仪，以入射在用于成像或光谱学的第一检测器处，和/或使通过所述第二入口孔接收的所述带电粒子在第二轨迹上穿过所述静电分析仪，以入射在用于成像或光谱学的第二检测器处；

其中在所述环形电容器型静电能量分析仪处接收从所述样品发射的所述带电粒子之前，所述方法还包括将从所述样品发射的带电粒子沿第一路径引向所述第一入口孔，和/或沿第二路径引向所述第二入口孔。

12.根据权利要求11所述的方法，其中所述第一检测器用于成像，并且所述第二检测器用于光谱学。