[发明专利]一种光转换膜及制备方法、防蓝光眼镜、照明及显示设备

权利要求书

1.一种光转换膜，其特征在于，包括光转换材料，所述光转换膜用于将入射光转换为出射光；

其中：当所述入射光的波长短于第一波长时，所述出射光的波长位于第二波长范围内；

所述第一波长的长度属于380－500nm，所述第二波长范围属于第一波长至500nm的子集。

2.根据权利要求1所述的光转换膜，其特征在于，所述光转换材料包括量子点、稀土荧光材料、有机小分子发光材料和有机高分子发光材料其中一种或几种的组合。

3.根据权利要求2所述的光转换膜，其特征在于，所述量子点包括如下一种或几种的组合：

II－VI族化合物、III－V族化合物、II－V族化合物、III－VI化合物、IV－VI族化合物、I－III－VI族化合物、II－IV－VI族化合物、IV族单质和钙钛矿。

4.根据权利要求3所述的光转换膜，其特征在于，所述钙钛矿包括无机钙钛矿或无机－有机杂化钙钛矿；

所述的无机钙钛矿的结构通式为AMX3，其中，A为Cs+离子，M为二价金属阳离子，包括Pb²⁺、Sn²⁺、Cu²⁺、Ni²⁺、Cd²⁺、Cr²⁺、Mn²⁺、Co²⁺、Fe²⁺、Ge²⁺、Yb²⁺、Eu²⁺，X为卤素阴离子，包括Cl^－、Br^－、I^－；

所述的有机－无机杂化钙钛矿的结构通式为BMX3，其中，B为有机胺阳离子，包括CH₃(CH₂)_n－2NH₃⁺或NH₃(CH₂)_nNH₃²⁺，M为二价金属阳离子，包括Pb²⁺、Sn²⁺、Cu²⁺、Ni²⁺、Cd²⁺、Cr²⁺、Mn²⁺、Co²⁺、Fe²⁺、Ge²⁺、Yb²⁺、Eu²⁺，X为卤素阴离子，包括Cl^－、Br^－、I^－。

5.根据权利要求1所述的光转换膜，其特征在于，所述光转换膜还包括光转化层，所述光转换材料位于所述光转化层中。

6.根据权利要求1所述的光转换膜，其特征在于，所述光转换膜还包括第一基层和第二基层，所述第一基层、所述光转化层和所述第二基层依次层叠设置。

7.根据权利要求1－6任一所述的光转换膜，其特征在于，所述第一波长为460nm。

8.根据权利要求1－6任一所述的光转换膜，其特征在于，所述第二波长范围为480nm－500nm。

9.一种光转换膜的制备方法，其特征在于，包括：

获取第一基层；

在所述第一基层上设置光转换层；

在所述光转换层上设置第二基层；

其中：所述光转换层中含有光转换材料，其将入射光转换为出射光；当所述入射光的波长短于第一波长时，所述出射光的波长位于第二波长范围内；所述第一波长的长度属于380－500nm，所述第二波长范围属于第一波长至500nm的子集。

10.一种防蓝光眼镜，其特征在于，将权利要求1－8任一所述的光转换膜设置于所述防蓝光眼镜的镜片上的至少一个表面。