[发明专利]一种碳纳米纤维增强镍基复合涂层及其制备方法有效
申请号: | 202010742416.6 | 申请日: | 2020-07-29 |
公开(公告)号: | CN111850498B | 公开(公告)日: | 2021-11-02 |
发明(设计)人: | 文懋;齐金磊;于文倩;王龙鹏;张侃;郑伟涛 | 申请(专利权)人: | 吉林大学 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/16;C23C14/02;C23C14/50;B82Y30/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人: | 马小星 |
地址: | 130000 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 纳米 纤维 增强 复合 涂层 及其 制备 方法 | ||
1.一种碳纳米纤维增强镍基复合涂层的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:采用磁控溅射技术,在甲烷和氩气存在的条件下,以镍靶和碳靶为靶材对衬底进行溅射镀膜,溅射过程中镍原子周围的碳原子原位自组装生长为碳纳米纤维,在衬底表面得到碳纳米纤维增强镍基复合涂层;
所述制备方法包括以下步骤:
(1)将衬底放入磁控溅射装置的镀膜室中,将镍靶和碳靶安装到溅射装置的靶位上,调节靶基距和沉积倾角后对腔体抽真空;
(2)打开衬底自转,将衬底温度升至溅射温度,然后通入氩气和甲烷,开始进行磁控溅射,溅射完成后,在衬底表面得到碳纳米纤维增强镍基复合涂层;
所述氩气和甲烷的流量比为(60~80):(2~10);
所述溅射温度为450~750℃;
所述磁控溅射过程中,碳靶的电流为0.1~0.4A,沉积率为9~15nm/min,镍靶的电流为0.03~0.07A,沉积率为9~15nm/min。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述衬底包括Ti片、Si片、蓝宝石片或合金金属片。
3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述衬底在使用前依次进行清洗和干燥;所述清洗为依次在丙酮和乙醇中进行超声清洗;当所述衬底为Ti片时,在清洗前还包括将Ti片在氟化氢溶液中浸泡的步骤。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述靶基距为8~12cm,所述沉积倾角为30~50度,所述对腔体抽真空以抽至腔体真空度≥4×10-4Pa为准。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述衬底自转的速率为60~90r/h。
6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)中磁控溅射的工作压强为0.5~1.5Pa,衬底偏压为-60~-140V,沉积时间为60~90min。
7.权利要求1~6任意一项所述制备方法制备的碳纳米纤维增强镍基复合涂层。
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