[发明专利]一种半导体二氧化铈研磨浆液在审
| 申请号： | 202010742568.6 | 申请日： | 2020-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN111718658A | 公开（公告）日： | 2020-09-29 |
| 发明（设计）人： | 刘仁军;漆书兵;周杰;易石山;谢求泉;杨敏 | 申请（专利权）人： | 江西庞泰环保股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 南昌金轩知识产权代理有限公司 36129 | 代理人： | 李楠 |
| 地址： | 337000 江西*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 氧化 研磨 浆液 | ||
【权利要求书】：
1.一种半导体二氧化铈研磨浆液，其特征在于，其原料组分包括：2-4wt％纳米CeO2、0.2-0.5wt％络合剂、0.2-0.5wt％分散剂、0.2-0.5wt％氧化剂、其余为水。
2.根据权利要求1所述的一种半导体二氧化铈研磨浆液，其特征在于：所述络合剂为EDTA、乙二胺四甲叉磷酸钠(EDTMPS)、二乙烯三胺五甲叉膦酸盐(DETPMPS)、胺三甲叉磷酸盐中的任意一种或多种的混合。
3.根据权利要求1所述的一种半导体二氧化铈研磨浆液，其特征在于：所述分散剂为六偏磷酸钠、三聚磷酸钠、焦磷酸钠中的任意一种或多种的混合。
4.根据权利要求1所述的一种半导体二氧化铈研磨浆液，其特征在于：所述氧化剂为过硫酸铵、过氧化氢、过氧乙酸中的任意一种或多种的混合。
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