[发明专利]一种波分时分复用低反射率高温光纤光栅阵列的制备方法

权利要求书

1.一种波分时分复用低反射率高温光纤光栅阵列的制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

步骤1)，飞秒激光刻写装置在同一根聚酰亚胺光纤上连续刻写多个不同波长的光纤布拉格光栅，形成聚酰亚胺光纤光栅阵列(1)；

步骤2)，将步骤1)得到的聚酰亚胺光纤光栅阵列(1)从刚性导热管(2)的开口处置入其内腔，然后采用橡胶限位管(3)将聚酰亚胺光纤光栅阵列(1)固定，最后在刚性导热管(2)的开口处注入耐高温无机胶进行固定，制得波分时分复用低反射率高温光纤光栅阵列；

所述步骤1)中，所述聚酰亚胺光纤是由在直径80-660μm的裸光纤外涂覆单边厚度为10-25μm的聚酰亚胺涂层制得；

所述步骤1)中，所述聚酰亚胺光纤光栅阵列(1)的中心波长为1520-1558nm，相邻光栅的波长间隔为2nm；

所述步骤1)中，相邻光栅的间距为5cm，光栅的长度为5-10mm，光栅的3db带宽为0.2-0.3nm；

所述步骤1)中，所述聚酰亚胺光纤光栅阵列(1)的反射率为1％～10％；

所述步骤1)中，所述飞秒激光刻写装置采用飞秒激光刻写线扫描技术，刻写时聚酰亚胺光纤由位移平台带动，按照光栅轨迹高速运动；

所述步骤2)中，所述刚性导热管(2)为有机聚合物管，其侧面具有与内腔连通的开口，聚酰亚胺光纤光栅阵列(1)从刚性导热管(2)的开口处置入其内腔。