[发明专利]喷墨记录设备及其方法和存储介质

说明书

本发明涉及一种喷墨记录设备及其方法和存储介质。所述喷墨记录设备包括：记录头，其包括喷出口面和喷嘴盖，其中所述喷出口面包括要喷出墨所经由的多个喷出口的阵列，以及其中所述喷嘴盖相对于所述喷出口面向下突出并且布置在所述喷出口面的外侧；擦拭器单元，其能够擦拭所述喷出口面和所述喷嘴盖；以及移动机构，其被配置为使所述擦拭器单元相对于所述喷出口面移动，其中，所述擦拭器单元在如下的位置具有缺口，在所述移动机构使所述擦拭器单元移动的同时所述擦拭器单元进行擦拭时，在该位置处的所述缺口面向所述喷出口面和所述喷嘴盖之间的第一台阶部。

技术领域

本发明涉及喷墨记录设备和喷墨记录设备的控制方法。

背景技术

日本特开2018-122501公开了如下的喷墨记录设备，该喷墨记录设备包括用于擦拭记录头的喷出口阵列的擦拭器、以及用于擦拭包括喷出口阵列的喷出口面整体的台擦拭器(tab wiper)。因而，可以擦拭残留在喷出口阵列上的墨和散布在台面(tab surface)上的墨。

在记录头重复进行记录操作时，由于从记录头喷出的墨飞出，因此墨可能附着到覆盖台面的外侧的喷嘴盖。在附着的墨累积的情况下，墨可能会污染记录介质。然而，利用日本特开2018-122501中所公开的结构，擦拭器或台擦拭器不能擦拭喷嘴盖。可能无法防止记录介质被污染。

发明内容

本发明是考虑到上述问题而做出的，并且提供如下的喷墨记录设备，其能够通过进行擦拭直至喷出口面的外侧来防止记录介质被污染。

根据本发明的一个实施例，一种喷墨记录设备，包括：记录头，其包括喷出口面和喷嘴盖，其中所述喷出口面包括要喷出墨所经由的多个喷出口的阵列，以及其中所述喷嘴盖相对于所述喷出口面向下突出并且布置在所述喷出口面的外侧；擦拭器单元，其能够擦拭所述喷出口面和所述喷嘴盖；以及移动机构，其被配置为使所述擦拭器单元相对于所述喷出口面移动，其中，所述擦拭器单元在如下的位置具有缺口，在所述移动机构使所述擦拭器单元移动的同时所述擦拭器单元进行擦拭时，在该位置处的所述缺口面向所述喷出口面和所述喷嘴盖之间的第一台阶部。

根据本发明的另一实施例，一种喷墨记录设备，包括：滑架，其被配置为沿第一方向往复移动；记录头，其包括喷出口面、第一喷嘴盖和第二喷嘴盖，其中所述喷出口面包括要喷出墨所经由的多个喷出口的阵列，以及其中所述第一喷嘴盖和所述第二喷嘴盖相对于所述喷出口面向下突出并且在所述第一方向上布置在所述喷出口面的外侧；擦拭器单元，其能够擦拭所述喷出口面、所述第一喷嘴盖和所述第二喷嘴盖；以及移动机构，其被配置为使所述擦拭器单元相对于所述喷出口面沿与所述第一方向相交的第二方向移动，其中，所述第二喷嘴盖布置在比所述第一喷嘴盖的位置离所述记录头进行记录的记录区域更近的位置，以及其中，所述擦拭器单元被配置为执行第一擦拭操作和第二擦拭操作，其中，在所述记录头位于第一位置的状态下，所述第一擦拭操作擦拭所述第二喷嘴盖，但不擦拭所述第一喷嘴盖，以及其中，在所述记录头位于所述第一方向上比所述第一位置离所述记录区域更近的第二位置的状态下，所述第二擦拭操作擦拭所述第一喷嘴盖，但不擦拭所述第二喷嘴盖。

根据本发明的又一实施例，一种用于喷墨记录设备的方法，所述喷墨记录设备具有：滑架，其被配置为沿第一方向往复移动；记录头，其包括喷出口面、第一喷嘴盖和第二喷嘴盖，其中所述喷出口面包括要喷出墨所经由的多个喷出口的阵列，以及其中所述第一喷嘴盖和所述第二喷嘴盖相对于所述喷出口面向下突出并且在所述第一方向上布置在所述喷出口面的外侧；擦拭器单元，其能够擦拭所述喷出口面、所述第一喷嘴盖和所述第二喷嘴盖；以及移动机构，其被配置为使所述擦拭器单元相对于所述喷出口面沿与所述第一方向相交的第二方向移动，其中，所述第二喷嘴盖布置在比所述第一喷嘴盖的位置离所述记录头进行记录的记录区域更近的位置，所述方法包括：经由所述擦拭器单元执行第一擦拭操作，所述第一擦拭操作用以在所述记录头位于第一位置的状态下，擦拭所述第二喷嘴盖，但不擦拭所述第一喷嘴盖；以及经由所述擦拭器单元执行第二擦拭操作，所述第二擦拭操作用以在所述记录头位于所述第一方向上比所述第一位置离所述记录区域更近的第二位置的状态下，擦拭所述第一喷嘴盖，但不擦拭所述第二喷嘴盖。