[发明专利]一种体积光渲染方法、装置、电子设备及存储介质

权利要求书

1.一种体积光渲染方法，其特征在于，包括：

创建高清晰渲染管线；

在所述高清晰渲染管线中将体积云模型渲染到渲染目标，使得将云层显示到屏幕空间，其中，所述体积云模型用于表示虚拟场景中的所述云层；

计算所述屏幕空间中各像素点对应的体积光照信息；

根据所述体积光照信息在所述高清晰渲染管线中进行渲染，使得将所述云层对应的体积光显示到所述屏幕空间。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述计算所述屏幕空间中各像素点对应的体积光照信息，包括：

获取相机视角对应的视锥体及太阳光源对应的太阳阴影贴图；

将所述视锥体离散处理为三维纹理图像；

根据所述太阳阴影贴图计算所述三维纹理图像中各体素对应的第一光照信息；

根据所述相机视角的主视点发射的光线进行采样，得到所述相机视角视线方向上所述体素的第二光照信息；

根据所述第一光照信息和所述第二光照信息计算所述体积光照信息。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据所述第一光照信息和所述第二光照信息计算所述体积光照信息，包括：

当确定太阳光源方向上存在所述云层遮挡时，获取在所述太阳光源方向上所述云层对应的阴影强度；

根据所述阴影强度及所述第一光照信息计算所述体素对应的第三光照信息；

根据所述第三光照信息和所述第二光照信息计算所述体积光照信息。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述将所述视锥体离散处理为三维纹理图像，包括：

根据屏幕分辨率确定所述三维纹理图像对应的体积参数；

将所述视锥体离散处理为所述体积参数对应的三维纹理图像；

所述根据所述相机视角的主视点发射的光线进行采样，包括：

根据所述体积参数确定采样步长；

以所述采样步长根据所述相机视角的主视点发射的光线进行采样。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述根据屏幕分辨率确定所述三维纹理图像对应的体积参数，包括：

根据所述屏幕分辨率确定所述体积参数中的宽度值和高度值；

采用低于所述屏幕分辨率的预设分辨率确定所述体积参数中的深度值。

6.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据所述体积光照信息在所述高清晰渲染管线中进行渲染，包括：

对所述渲染目标进行大气散射采样，得到所述渲染目标各像素对应的散射光线信息；

根据所述散射光线信息对所述体积光照信息进行渲染。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述对所述渲染目标进行大气散射采样，包括：

当采样到不透明物体的边缘像素时，对所述边缘像素相邻的天空颜色进行采样；

使用所述天空颜色作为所述边缘像素的颜色。

8.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述获取太阳光源对应的太阳阴影贴图，包括：

获取从所述相机视角得到的相机深度纹理贴图，及从所述太阳光源方向得到的光源深度纹理贴图；

根据所述相机深度纹理贴图和所述光源深度纹理贴图在所述屏幕空间进行阴影收集计算，得到所述太阳阴影贴图。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述根据所述相机深度纹理贴图和所述光源深度纹理贴图在所述屏幕空间进行阴影收集计算，得到所述太阳阴影贴图，包括：

确定所述相机深度纹理贴图中各像素的第一深度值及其对应的世界空间坐标；

将所述像素的世界空间坐标转换为所述光源深度纹理贴图对应的光源空间坐标；

将所述光源空间坐标在所述光源深度纹理贴图中对应的第二深度值与所述第一深度值进行比对；

当根据所述第一深度值与所述第二深度值的比对结果确定所述像素位于阴影内时，根据位于阴影内像素的像素值得到所述太阳阴影贴图。