[发明专利]一种体积云阴影渲染方法、装置、电子设备及存储介质在审
申请号: | 202010747146.8 | 申请日: | 2020-07-29 |
公开(公告)号: | CN111968216A | 公开(公告)日: | 2020-11-20 |
发明(设计)人: | 彭通;周陶生;王鹏;徐丹 | 申请(专利权)人: | 完美世界(北京)软件科技发展有限公司 |
主分类号: | G06T15/20 | 分类号: | G06T15/20;G06T15/08;G06T15/60;G06T7/529;G06T7/90 |
代理公司: | 北京华夏泰和知识产权代理有限公司 11662 | 代理人: | 沈园园 |
地址: | 100085 北京市海淀*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 体积 阴影 渲染 方法 装置 电子设备 存储 介质 | ||
1.一种体积云阴影渲染方法,其特征在于,包括:
创建高清晰渲染管线;
在所述高清晰渲染管线中添加体积云模型,其中,所述体积云模型用于表示虚拟场景中的云层;
在屏幕空间计算所述体积云模型对应的云层阴影贴图;
在所述高清晰渲染管线中将体积云模型和所述云层阴影贴图渲染到渲染目标,使得将所述云层及所述云层对应的阴影显示到屏幕。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述在屏幕空间计算所述体积云模型对应的云层阴影贴图,包括:
获取所述屏幕空间中太阳光源对应的太阳阴影贴图;
根据所述太阳阴影贴图计算所述屏幕空间中所有像素对应的屏幕空间阴影遮罩图;
获取所述体积云模型在太阳光源方向上投射的阴影强度;
根据所述阴影强度调整所述屏幕空间阴影遮罩图中所述像素的像素值,得到所述体积云模型对应的云层阴影遮罩图;
根据所述云层阴影遮罩图确定所述云层阴影贴图。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述根据所述云层阴影遮罩图确定所述云层阴影贴图,包括:
根据所述云层阴影遮罩图确定所述云层阴影的顶点;
获取所述顶点对应的屏幕坐标及第一像素值;
根据所述屏幕坐标进行随机计算,得到随机数;
将所述随机数归一化到第一预设数值范围,得到归一化随机数;
基于所述归一化随机数对所述第一像素值进行跨色阶百分比闭合滤波计算,得到所述顶点对应第二像素值;
将所述第二像素值映射到第二预设数据范围,得到所述云层阴影贴图。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述第一预设数值范围为[-2.5,2.5]。
5.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述根据所述云层阴影遮罩图确定所述云层阴影贴图,包括:
从所述屏幕空间中的像素点向所述太阳光源方向步进地发射第一射线,对所述第一射线进行碰撞检测,得到所述像素点与碰撞点的第一距离;
当所述第一距离小于所述像素点与所述太阳光源的第二距离时,获取所述像素点对应的光照信息;
根据所述光照信息对云层阴影遮罩图进行校正,得到所述云层阴影贴图。
6.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述获取太阳光源对应的太阳阴影贴图,包括:
获取从相机视角得到的相机深度纹理贴图,及从所述太阳光源方向得到的光源深度纹理贴图;
根据所述相机深度纹理贴图和所述光源深度纹理贴图在所述屏幕空间进行阴影收集计算,得到所述太阳阴影贴图。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述根据所述相机深度纹理贴图和所述光源深度纹理贴图在所述屏幕空间进行阴影收集计算,得到所述太阳阴影贴图,包括:
确定所述相机深度纹理贴图中各像素的第一深度值及其对应的世界空间坐标;
将所述像素的世界空间坐标转换为所述光源深度纹理贴图对应的光源空间坐标;
将所述光源空间坐标在所述光源深度纹理贴图中对应的第二深度值与所述第一深度值进行比对;
当根据所述第一深度值与所述第二深度值的比对结果确定所述像素位于阴影内时,根据位于阴影内像素的像素值得到所述太阳阴影贴图。
8.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述根据所述相机深度纹理贴图和所述光源深度纹理贴图在所述屏幕空间进行阴影收集计算,得到太阳阴影贴图,包括:
获取至少两个不同的分辨率;
根据所述相机深度纹理贴图和所述光源深度纹理贴图在所述屏幕空间进行阴影收集计算,分别生成不同所述分辨率对应的太阳阴影贴图;
所述根据所述太阳阴影贴图计算所述屏幕空间中所有像素对应的屏幕空间阴影遮罩图,包括:
获取所述像素与相机的距离;
根据所述距离对应的分辨率选择所述像素对应的太阳阴影贴图;
分别根据每个所述像素对应的太阳阴影贴图,计算得到所述屏幕空间阴影遮罩图。
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