[发明专利]一种电容式双棱镜干涉实验测量装置在审
申请号: | 202010747498.3 | 申请日: | 2020-07-30 |
公开(公告)号: | CN111707384A | 公开(公告)日: | 2020-09-25 |
发明(设计)人: | 段秀铭;易志军;张伦 | 申请(专利权)人: | 中国矿业大学 |
主分类号: | G01J9/02 | 分类号: | G01J9/02;G01B7/02;G01B7/14;G09B23/22 |
代理公司: | 苏州衡创知识产权代理事务所(普通合伙) 32329 | 代理人: | 王睿 |
地址: | 221000*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电容 棱镜 干涉 实验 测量 装置 | ||
本发明公开了一种电容式双棱镜干涉实验测量装置,包括激光器、第一凸透镜、位移处理显示系统、电容器、光电探测器、滑座、第二凸透镜、轨道和双棱镜;所述激光器、第一凸透镜、双棱镜、第二凸透镜和光电探测器五个光学元件依次排列在轨道上,并处于同一光轴线上;所述轨道上划分有刻度线;所述电容器中的一个电容极板与光电探测器连接,调节光电探测器时带动与其连接的电容极板一同位移,两个电容极板正对面积发生变化,引起电容量变化;所述位移处理显示系统与电容器连接,将电容量的变化转化为光电探测器的位移数值显示出来。本发明可以使得光路共轴调节直观可见,也使得测量干涉条纹间距更方便和准确。
技术领域
本发明涉及一种光学实验测量仪器,具体是一种电容式双棱镜干涉实验测量装置。
背景技术
现有双棱镜干涉实验可以测量光波波长,相关公式为,ΔX为相邻干涉条纹间距离,d为两虚光源间距离,D为虚光源到接收屏距离。实验中要调节各元件同轴等高,要记录各元件相对位置。传统实验装置是采用人眼粗略校对调整光路共轴,不够方便和直观;传统滑块横向调节功能容易损坏;暗光条件下,记录元件刻度位置也有一定的不便;且靠人工读数方法记录干涉条纹的相对位置,进而计算得到ΔX,但仪器上所使用的记录光电探测器位移的一维滑座系统,因长期使用,尺刻度磨损或主副尺位置偏差,导致读数容易出错,最后导致实验结果偏差很大。
发明内容
针对上述现有技术存在的问题,本发明提供一种电容式双棱镜干涉实验测量装置,自动完成对光电元件位移的测量,即实现对ΔX的测量,使得共轴调节更方便和更直观可见。
为了实现上述目的,本发明采用的技术方案是:一种包括激光器、第一凸透镜、位移处理显示系统、电容器、光电探测器、滑座、第二凸透镜、轨道和双棱镜;
所述激光器、第一凸透镜、双棱镜、第二凸透镜和光电探测器五个光学元件依次排列在轨道上,并处于同一光轴线上,所述轨道上划分有刻度线;所述激光器、第一凸透镜、双棱镜、第二凸透镜下端分别通过一支撑杆固定在一滑块上,每个滑块都横嵌在轨道上,能够在轨道上横向移动并通过紧固螺丝固定相对位置;所述光电探测器通过一支撑杆连接在滑座内的丝杠上,所述滑座设置有丝杆并配有调节旋钮,扭动调节旋钮转动丝杆,使光电探测器垂直于轨道纵向移动;所述滑座横嵌在轨道上,能够在轨道上横向移动并通过滑座固定螺丝固定相对位置;所述电容器中的一个电容极板与光电探测器连接,移动光电探测器时带动与其连接的电容极板一同位移,两个电容极板正对面积发生变化,引起电容量变化;所述位移处理显示系统与电容器连接,将电容量的变化转化为光电探测器的位移数值显示出来;
电容量的变化和光电探测器位移,之间的关系如下:
式中:ΔX为光电探测器的位移;:相对介电常数;k:静电力常量;d是两个电容极的间距;b是电容极板的宽度;C1-C2 为电容的变化量。
采用上述技术方案的有益效果是:相比较现有技术肉眼读刻度尺计数的方法,本发明采用电容器中其中一个极板与光电探测器相连,移动光电探测器时使得两块极板正对面积发生变化,电容量即发生变化;位移处理显示系统接收处理电容器上信号,转换出光电探测器的位移数值并显示出来,从而测得干涉条纹间距,本发明可以使得光路共轴调节直观可见,实现对干涉条纹间距的自动测量,也使得测量干涉条纹间距更方便和准确。
本发明进一步的,所述支撑杆为伸缩杆,伸缩杆上配有禁锢螺丝。
采用上述技术方案的有益效果是:支撑杆采用伸缩杆设计,可方便高度调节。
本发明进一步的,所述激光器上设有面罩,所述面罩为白色不透光罩子,大小与激光器适配,面罩中心有通光小孔。
采用上述技术方案的有益效果是:用于光路共轴调节时限制出光光束,并接收反射光束供观察共轴。
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