[发明专利]一种二能级原子与双曲超构材料板之间Casimir-Polder力的计算方法在审

专利信息
申请号: 202010748150.6 申请日: 2020-07-30
公开(公告)号: CN111986734A 公开(公告)日: 2020-11-24
发明(设计)人: 曾然;徐思远;钱秀秀;李浩珍;杨淑娜;胡淼;李齐良 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: G16C10/00 分类号: G16C10/00;G16C60/00
代理公司: 浙江千克知识产权代理有限公司 33246 代理人: 周希良
地址: 310018 浙江省杭州市*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 能级 原子 双曲超构 材料 之间 casimir polder 计算方法
【说明书】:

发明公开了一种二能级原子与双曲超构材料板之间Casimir‑Polder力的计算方法,包括步骤:S11.建立二能级原子和双曲超构材料板模型;S12.根据建立的模型确定双曲超构材料板的电磁特性;S13.计算双曲超构材料板中各向异性介质随时间演化的电场;S14.根据得到的电场计算原子内部动力学下的频移;S15.根据得到的频移计算二能级原子和双曲超构材料板模型的Casimir‑Polder力。本发明能够分析处于激发态的二能级原子共振频率分别位于双曲频段和非双曲频段时,原子所受Casimir‑Polder力的变化;本发明能够准确地反映出材料板间距对二能级原子与双曲超构材料板间Casimir‑Polder力的影响;由填充因子改变所反映的二能级原子与双曲超构材料板间Casimir‑Polder力的变化趋势本发明也能准确分析。

技术领域

本发明涉及量子光通信技术领域,尤其涉及一种二能级原子与双曲超构材料板之间Casimir-Polder力的计算方法。

背景技术

Casimir-Polder(CP)力起源于场和偶极动量的量子涨落,它是一个中性原子或分子与平面、介质板或者是其他宏观物体之间的一种色散力。当原子初始处于基态时,Casimir-Polder力会迅速衰减到零,而激发态原子所受的Casimir-Polder力比基态原子强得多,并且随着原子与表面的距离增大,振幅按正弦方式逐渐减小,特别地,激发态原子受到的Casimir-Polder力可以是排斥力。Casimir-Polder力在物理化学、原子光学和腔QED的各个方面中都起着重要作用,并且在纳米技术中的许多潜在应用里同样发挥作用,例如构造原子力显微镜或反射原子光学元件,以及制备原子Mach-Zehnder型干涉仪。

近年来,双曲超构材料(HMMs)的研究引起广泛关注,此材料具有极强的各向异性,且其介电常数或磁导率张量中的正交分量异号,这种特殊性使其具有广阔的应用前景。包括QED效应的增强、热超导电性、生物传感、以及亚波长成像等。因此,本发明提出一种二能级原子与双曲超构材料板之间Casimir-Polder力的计算方法。

发明内容

本发明的目的是针对现有技术的缺陷,提供了一种二能级原子与双曲超构材料板之间Casimir-Polder力的计算方法,本发明所使用的双曲超构材料模型比较接近于实际的双曲超构材料的实验结构,作为测试模型具有应用价值。

为了实现以上目的,本发明采用以下技术方案:

一种二能级原子与双曲超构材料板之间Casimir-Polder力的计算方法,包括步骤:

S1.建立二能级原子和双曲超构材料板模型;

S2.根据建立的模型确定双曲超构材料板的电磁特性;

S3.计算双曲超构材料板中各向异性介质随时间演化的电场;

S4.根据得到的电场计算原子内部动力学下的频移;

S5.根据得到的频移计算二能级原子和双曲超构材料板模型的Casimir-Polder力。

进一步的,所述步骤S1具体为:

选择真空中二能级原子位于厚度为dM、介电常数为ε、磁导率为μ的双曲超构材料板右侧的结构模型,并以双曲超构材料右界面为z轴零点,原子的位置矢量rA=(0,0,zA),z轴分量为zA(zA>0),建立二能级原子和双曲超构材料板模型。

进一步的,所述步骤S2中双曲超构材料板的材料包括电双曲超构材料ε-HMM和磁双曲超构材料μ-HMM。

进一步的,所述电双曲超构材料ε-HMM介电常数张量,表示为:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州电子科技大学,未经杭州电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010748150.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top