[发明专利]光学单元

说明书

本发明提供一种薄型且能够在较宽的调节范围内朝向拍摄元件调节入射光束的光学单元。该光学单元(1)具备：基板(4)，具有通过入射光束拍摄被拍摄体像的拍摄元件(41)；反射部(2)，使入射光束从自外部的入射方向(D1)向朝向拍摄元件(41)的反射方向(D2)反射；基板摆动机构(50)，具有成对的第一磁体和第一线圈，以滚动轴(Ar)为基准使基板(4)摆动；以及反射部摆动机构(51)，具有成对的第二磁体和第二线圈，以偏转轴(Ay)及俯仰轴(Ap)中的至少一方为基准使反射部(2)摆动。

技术领域

本发明涉及一种光学单元。

背景技术

以往，使用具备基板和反射部的各种光学单元，其中，上述基板具有通过入射光束拍摄被拍摄体像的拍摄元件，上述反射部使入射光束反射。通过设为使入射光束反射的结构，可以将光学单元制成薄型。例如，在专利文献1中公开了一种摄像头模块，该摄像头模块具备具有图像传感器的基板和使入射光束反射的棱镜。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：US2018/0217475A1

发明内容

发明所要解决的技术问题

然而，如上所述的具备具有拍摄元件的基板和反射部的传统上的光学单元不能说是能够在较宽的调节范围内朝向拍摄元件调节入射光束的结构。例如，在专利文献1的摄像头模块中，入射光束可能在旋转方向上偏离地入射至拍摄元件。因此，本发明的目的在于提供一种薄型且能够在较宽的调节范围内朝向拍摄元件调节入射光束的光学单元。

解决技术问题所采用的技术方案

本发明提供一种光学单元，其特征在于，具备：基板，所述基板具有通过入射光束拍摄被拍摄体像的拍摄元件；反射部，所述反射部使所述入射光束从自外部的入射方向向朝向所述拍摄元件的反射方向反射；基板摆动机构，所述基板摆动机构具有成对的第一磁体和第一线圈，且以滚动轴为基准使所述基板摆动；以及反射部摆动机构，所述反射部摆动机构具有成对的第二磁体和第二线圈，且以偏转轴及俯仰轴中的至少一方为基准使所述反射部摆动。

根据本方式，具备以偏转轴及俯仰轴中的至少一方为基准使反射部摆动的反射部摆动机构，并且具备以滚动轴为基准使基板摆动的基板摆动机构。因此，通过使反射部在较宽的范围内运动，并且以滚动轴为基准使基板摆动，能够消除入射光束在旋转方向上偏离地入射至拍摄元件的风险。即，能够设为能够在较宽的调节范围内朝向拍摄元件调节入射光束的光学单元。另外，通过设置反射部，能够将光学单元设为薄型。此外，通过将基板摆动机构和反射部摆动机构设为成对的磁体和线圈，能够将基板摆动机构和反射部摆动机构小型化，特别是能够将光学单元制成薄型。

在本发明的光学单元中，优选的是，所述反射部摆动机构以偏转轴及俯仰轴双方为基准使反射部摆动。这是因为通过以偏转轴及俯仰轴双方为基准使反射部摆动，能够使反射部在特别宽的范围内运动。

在本发明的光学单元中，优选的一例为，作为所述反射部摆动机构，在从所述入射方向观察时与所述反射部交叠的位置具备以偏转轴为基准使所述反射部摆动的成对的所述第二磁体和所述第二线圈。这是因为以偏转轴为基准的反射部的平衡变得良好。

在本发明的光学单元中，优选的一例为，作为所述反射部摆动机构，在从俯仰轴方向观察时与所述反射部交叠的位置具备以偏转轴为基准使所述反射部摆动的成对的所述第二磁体和所述第二线圈。从入射方向观察时，在与反射部交叠的位置没有设置反射部摆动机构的空间的情况下有效。

在这样的结构的情况下，优选的是，作为所述反射部摆动机构，从所述入射方向观察时，在所述俯仰轴方向上的所述反射部的两侧具备以偏转轴为基准使所述反射部摆动的成对的所述第二磁体和所述第二线圈。这是因为以偏转轴为基准的反射部的平衡变得良好。