[发明专利]一种致密CsPbBr3有效

专利信息
申请号: 202010750934.2 申请日: 2020-07-30
公开(公告)号: CN111847502B 公开(公告)日: 2021-05-11
发明(设计)人: 朱文鹏;邢未未;熊伟明;郑跃 申请(专利权)人: 中山大学
主分类号: G01N27/12 分类号: G01N27/12;C01G21/00
代理公司: 深圳市创富知识产权代理有限公司 44367 代理人: 李思坪
地址: 510275 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 致密 cspbbr base sub
【权利要求书】:

1.一种致密CsPbBr3薄膜的制备方法,其特征在于,将CsPbBr3薄膜制备在设置于基片上的Au薄膜上和/或Au薄膜边缘的基片上,所述Au薄膜边缘的基片指Au薄膜边缘小于100μm范围内的基片;

具体制备方法包括以下步骤:

S1、前驱体溶液的制备:将CsBr和PbBr2溶解到二甲基亚砜溶剂中,经加热搅拌均匀后得到前驱体溶液;

S2、溶液旋涂:对前驱体溶液和设置有Au薄膜的基片进行预热后,将前驱体溶液旋涂在Au薄膜上和/或Au薄膜边缘的基片上得到湿膜样品;

S3、退火处理:湿膜样品经退火后得到致密CsPbBr3薄膜。

2.根据权利要求1所述的一种致密CsPbBr3薄膜的制备方法,其特征在于,在步骤S1中,CsBr和PbBr2的物质的量比为1:(0.9-1.1),前驱体溶液的质量百分比浓度为15-25%。

3.采用权利要求1或2所述的制备方法得到的致密CsPbBr3薄膜在制备氧气传感器中的应用。

4.根据权利要求3所述的应用,其特征在于,所述氧气传感器包括但不限于无需光照室温下工作的氧气传感器。

5.一种CsPbBr3薄膜氧气传感器,其特征在于,包括采用权利要求1或2所述的制备方法得到的致密CsPbBr3薄膜。

6.权利要求5所述的CsPbBr3薄膜氧气传感器的制备方法,其特征在于,将CsPbBr3薄膜制备在设置有Au薄膜对电极的基片上构成氧气传感器。

7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

S1、电极制备:使用热蒸镀方法在基片上制备Au薄膜对电极;

S2、前驱体溶液的制备:将CsBr和PbBr2溶解到二甲基亚砜溶剂中,经加热搅拌均匀后得到前驱体溶液;

S3、溶液旋涂:将步骤S1制备了Au薄膜对电极的基片和步骤S2的前驱体溶液进行预热,然后将前驱体溶液旋涂在基片上得到湿膜样品;

S4、退火处理:湿膜样品经退火后得到CsPbBr3薄膜氧气传感器。

8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,在步骤S1中,Au薄膜对电极的沉积厚度为40-60nm,Au薄膜对电极的间距为小于100μm,蒸镀速率为0.3-0.7Å/s。

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