[发明专利]彩膜基板及其制备方法、显示面板、显示装置有效
申请号: | 202010751756.5 | 申请日: | 2020-07-30 |
公开(公告)号: | CN111679490B | 公开(公告)日: | 2023-07-21 |
发明(设计)人: | 詹乐宇;李静;张振铖;任玮;赖丽凤;李俊谊 | 申请(专利权)人: | 厦门天马微电子有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335 |
代理公司: | 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 | 代理人: | 刘广达 |
地址: | 361101 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 彩膜基板 及其 制备 方法 显示 面板 显示装置 | ||
1.一种彩膜基板,其特征在于,所述彩膜基板包括:
衬底基板;
黑矩阵,形成于所述衬底基板上,所述黑矩阵包括网格状的遮光条,所述网格状的遮光条限定出多个子像素的开口,所述多个子像素包括彩色子像素和白色子像素;以及
多个色阻块,每个所述色阻块在所述彩膜基板所在平面的正投影完全覆盖一个所述彩色子像素的开口,且与所述白色子像素相邻的至少一个所述彩色子像素的所述色阻块在所述彩膜基板所在平面的正投影还覆盖所述白色子像素的开口的一部分;
所述多个子像素呈多行多列的阵列式排列,所述彩色子像素包括第一颜色子像素、第二颜色子像素和第三颜色子像素,且所述第一颜色子像素、所述第二颜色子像素和所述第三颜色子像素的显示颜色各不相同;
所述白色子像素同时具有沿行方向相邻的第一彩色子像素和沿列方向相邻的第二彩色子像素时,所述第一彩色子像素和所述第二彩色子像素对应的所述色阻块在所述彩膜基板所在平面的正投影均覆盖所述白色子像素的开口的一部分;
与所述白色子像素相邻的各所述彩色子像素对应的所述色阻块在所述彩膜基板所在平面的正投影覆盖所述白色子像素的开口面积之和占所述白色子像素总开口面积的比例为25%~45%。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述第一颜色子像素为红色子像素,所述第二颜色子像素为绿色子像素,所述第三颜色子像素为蓝色子像素。
3.一种制备如权利要求1~2中任一项所述彩膜基板的制备方法,其特征在于,所述方法包括:
提供衬底基板;
在所述衬底基板上制备黑矩阵,所述黑矩阵包括网格状的遮光条,所述网格状的遮光条限定出多个子像素的开口,所述多个子像素包括彩色子像素和白色子像素;
在所述黑矩阵上形成与所述白色子像素相邻的所述彩色子像素的开口对应的光刻胶,并使用第一曝光参数对所述光刻胶进行曝光,以形成覆盖所述彩色子像素的开口且覆盖部分所述白色子像素的开口的色阻块;
在所述黑矩阵上形成与所述白色子像素不相邻的所述彩色子像素的开口对应的光刻胶,并使用第二曝光参数对所述光刻胶进行曝光,以形成覆盖与所述白色子像素不相邻的所述彩色子像素的开口的色阻块。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述第一曝光参数中的光强值大于所述第二曝光参数中的光强值。
5.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述第一曝光参数中的所述衬底基板与光罩之间的距离大于所述第二曝光参数中的所述衬底基板与所述光罩之间的距离。
6.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,在所述黑矩阵上形成每种覆盖所述彩色子像素的开口的色阻块之后,所述方法还包括:
形成一平坦化层,并对所述平坦化层进行平坦化处理;
所述白色子像素的开口未被覆盖部分对应的所述平坦化层的厚度大于每一所述彩色子像素的开口对应的所述平坦化层的厚度。
7.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括如上述权利要求1~2任一项所述的彩膜基板。
8.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括如上述权利要求7所述的显示面板。
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