[发明专利]图像风格迁移方法、装置、电子设备以及存储介质在审
申请号: | 202010752984.4 | 申请日: | 2020-07-30 |
公开(公告)号: | CN114066715A | 公开(公告)日: | 2022-02-18 |
发明(设计)人: | 马重阳;曾建峰;沈宇翔 | 申请(专利权)人: | 北京达佳互联信息技术有限公司 |
主分类号: | G06T3/00 | 分类号: | G06T3/00 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 张大威 |
地址: | 100085 北京市海淀*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图像 风格 迁移 方法 装置 电子设备 以及 存储 介质 | ||
1.一种图像风格迁移方法,其特征在于,包括:
获取原始图片和初始绘制参数;
将所述原始图片中的多个像素点作为多个采样点,并获取所述多个采样点分别对应的颜色;
在虚拟绘制画布上获取与所述多个采样点分别对应的多个映射点;
根据所述初始绘制参数和所述多个采样点分别对应的颜色生成虚拟绘制笔刷;
基于所述多个映射点,利用所述虚拟绘制笔刷在所述虚拟绘制画布上进行绘制,以生成风格迁移后的目标图片,其中,绘制过程包括多个绘制阶段,在每个绘制阶段中以对应的虚拟绘制笔刷在所述虚拟绘制画布上进行绘制,且在所述每个绘制阶段中以前一绘制阶段绘制得到的图片为基础进行绘制,且所述每个绘制阶段的虚拟绘制笔刷按照预设变化方式进行变化。
2.如权利要求1所述的图像风格迁移方法,其特征在于,在所述根据所述初始绘制参数和所述多个采样点分别对应的颜色生成虚拟绘制笔刷之后,所述方法还包括:
获取所述原始图片中的所述多个采样点的多个相邻像素点;
根据所述多个相邻像素点生成所述采样点对应的绘制路径;
根据所述绘制路径对所述虚拟绘制笔刷的参数进行调整。
3.如权利要求2所述的图像风格迁移方法,其特征在于,所述根据所述多个相邻像素点生成所述采样点对应的绘制路径,包括:
分别获取所述采样点与所述采样点的多个相邻像素点之间的像素差;
从所述多个相邻像素点中选择像素差最大的相邻像素点作为目标像素点;
根据所述采样点和所述目标像素点生成所述绘制路径。
4.如权利要求1所述的图像风格迁移方法,其特征在于,所述初始绘制参数包括掩码标识,所述方法还包括:
对所述原始图片进行检测以获取所述原始图片中的目标对象和目标对象类型;
根据所述目标对象类型确定所述目标对象的掩码区域;
在所述虚拟绘制画布中设置所述掩码区域;
采用与所述掩码标识匹配的绘制方式,在所述掩码区域和所述虚拟绘制画布中除所述掩码区域之外的非掩码区域中进行绘制。
5.如权利要求4所述的图像风格迁移方法,其特征在于,所述采用与所述掩码标识匹配的绘制方式,在所述掩码区域和所述虚拟绘制画布中除所述掩码区域之外的非掩码区域中进行绘制,包括:
在所述掩码标识为第一标识时,从所述原始图片中提取所述掩码区域所对应的掩码图像;其中,所述第一标识,用于指示在所述掩码区域中不进行绘制,及在所述非掩码区域中进行绘制;
将所述掩码图像添加至所述目标图片中的所述掩码区域,以生成处理后的目标图片。
6.如权利要求4所述的图像风格迁移方法,其特征在于,所述采用与所述掩码标识匹配的绘制方式,在所述掩码区域和所述虚拟绘制画布中除所述掩码区域之外的非掩码区域中进行绘制,包括:
在所述掩码标识为第二标识时,从所述原始图片中提取所述非掩码区域所对应的非掩码图像;其中,所述第二标识,用于指示在所述掩码区域中进行绘制,及在所述非掩码区域中不进行绘制;
将所述非掩码图像添加至所述目标图片中的所述非掩码区域,以生成处理后的目标图片。
7.如权利要求4所述的图像风格迁移方法,其特征在于,所述采用与所述掩码标识匹配的绘制方式,在所述掩码区域和所述虚拟绘制画布中除所述掩码区域之外的非掩码区域中进行绘制,包括:
在所述掩码标识为第三标识时,基于所述多个映射点,利用所述虚拟绘制笔刷在所述掩码区域和所述非掩码区域进行绘制,以生成所述目标图片;其中,所述第三标识,用于指示在所述掩码区域中进行绘制,及在所述非掩码区域中进行绘制,且所述掩码区域中的虚拟绘制笔刷参数与所述非掩码区域中的虚拟绘制笔刷参数不同。
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