[发明专利]一种眼镜片的镀膜方法

权利要求书

1.一种眼镜片的镀膜方法，其特征在于，具体步骤如下：

S1、将待镀膜镜片使用蒸馏水洗净，转移至无尘镀膜恒温烤箱中于100℃至120℃，烘烤9至11小时；

S2、将烘烤后的镜片利用真空蒸发镀膜法蒸镀厚度为3000至3500微米厚的二氧化硅层，蒸镀条件为：真空度为2.6至2.7×10^-7pa，温度为90至110℃，二氧化硅固体熔化电压为7.6至8.3kV，二氧化硅固体熔化电流为100至130A；

S3、蒸镀完毕1小时，将镜片取出烘干固化，其中烘干温度160℃，固化时间1.5小时；

S4、然后把固化后的镜片进行退火，将退火处理后的镜片转移至真空镀膜舱内，并通入氩气，用霍尔离子源对镜片进行离子轰击，条件为温度为60至80℃，离子轰击速率为150至170a/sec，时间为2至5min；氩气流量为15至20sccm，时间2至5min；

S5、确保真空腔室的真空度为2.6至2.7×10^-7pa，温度为40至60℃，采用真空蒸镀法在二氧化硅层上，蒸镀出厚度为200至500微米的二氧化锆层；二氧化锆固体熔化电压为6至8kV，二氧化锆固体熔化电流为200至230A；

S6、确保真空腔室真空度为3×10^-7Pa，温度为50至70℃，启动电子束枪，调整电子束的位置，蒸镀的速率为在二氧化硅层的表面上蒸镀厚度为80至100微米的氟化物膜层，关闭电子束枪，关闭分子泵，开启进气阀，通入空气，取出镜片即可。

2.一种眼镜片的镀膜方法，其特征在于：S1步骤中，将待镀膜镜片使用蒸馏水洗净，转移至无尘镀膜恒温烤箱中于110℃，烘烤10小时。

3.根据权利要求1所述的一种眼镜片的镀膜方法，其特征在于：S2步骤中，将烘烤后的镜片利用真空蒸发镀膜法蒸镀厚度为3250微米厚的二氧化硅层，蒸镀条件为：真空度为2.65×10^-7pa，温度为100℃，二氧化硅固体熔化电压为8kV，二氧化硅固体熔化电流为115A。

4.根据权利要求4所述的一种眼镜片的镀膜方法，其特征在于：S4步骤中，然后把固化后的镜片进行退火，将退火处理后的镜片转移至真空镀膜舱内，并通入氩气，用霍尔离子源对镜片进行离子轰击，条件为温度为70℃，离子轰击速率为160a/sec，时间为3min；氩气流量为18sccm，时间4min。

5.根据权利要求4所述的一种眼镜片的镀膜方法，其特征在于：S5步骤中，确保真空腔室的真空度为2.65×10^-7pa，温度为50℃，采用真空蒸镀法在二氧化硅层上，蒸镀出厚度为300微米的二氧化锆层；二氧化锆固体熔化电压为7kV，二氧化锆固体熔化电流为215A。