[发明专利]一种含稠杂环结构的化合物及其应用和一种有机电致发光器件有效

专利信息
申请号: 202010756427.X 申请日: 2020-07-31
公开(公告)号: CN114057766B 公开(公告)日: 2023-01-06
发明(设计)人: 吕瑶;冯美娟 申请(专利权)人: 北京绿人科技有限责任公司
主分类号: C07D498/16 分类号: C07D498/16;C07D513/16;C09K11/06
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 陈静;刘依云
地址: 102200 北京市昌平*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 含稠杂环 结构 化合物 及其 应用 有机 电致发光 器件
【权利要求书】:

1.一种含稠杂环结构的化合物,其特征在于,该化合物具有式(I)所示的结构:

式(I):A-L1-B;

其中,

式(I)中的A结构由式(I-1)所示的结构去掉任意一个H原子而提供;

式(I)中的B结构由式(I-2)所示的结构、式(I-3)所示的结构、式(I-4)所示的结构、式(I-5)所示的结构去掉任意一个H原子、式(I-6)所示的结构、式(I-7)所示的结构、式(I-8)所示的结构、式(I-9)所示的结构中的任意一个结构而提供;

式(I)中的L1结构由选自苯、联苯、萘、二苯并呋喃、二苯并噻吩、咔唑中的任意一种化合物去掉任意两个H原子而提供,或者式(I)中的L1结构不存在而使得式(I)中的A结构与B结构直接连接;

式(I-1):式(I-2):

式(I-3):式(I-4):式(I-5):

式(I-6):式(I-7):

式(I-8):式(I-9):

在式(I-1)中,X为O或S;

在式(I-2)中,X1、X2和X3中的两者为N,剩余一者为N或CH;

在式(I-2)和式(I-3)中,R1、R2、R3、R4各自独立地选自苯基、联苯基、萘基、9,9-二甲基芴去掉共轭环上的任意一个H原子提供的基团、二苯并呋喃基、二苯并噻吩基中的至少一种基团。

2.根据权利要求1所述的化合物,其中,

式(I)中的A结构由式(I-1)所示的结构去掉任意一个H原子而提供;

式(I)中的B结构由式(I-2)所示的结构提供;

式(I)中的L1结构由选自苯、联苯、萘、二苯并呋喃、二苯并噻吩、咔唑中的任意一种化合物去掉任意两个H原子而提供,或者式(I)中的L1结构不存在而使得式(I)中的A结构与B结构直接连接;

在式(I-1)中,X为O或S;

在式(I-2)中,X1、X2和X3中的两者为N,剩余一者为N或CH;

R1、R2各自独立地选自苯基、联苯基、萘基、9,9-二甲基芴去掉共轭环上的任意一个H原子提供的基团、二苯并呋喃基、二苯并噻吩基中的至少一种基团。

3.根据权利要求1或2所述的化合物,其中,式(I)所示结构的化合物选自以下中的任意一种:

4.根据权利要求1所述的化合物,其中,

式(I)中的A结构由式(I-1)所示的结构去掉任意一个H原子而提供;

式(I)中的B结构由式(I-3)所示的结构提供;

式(I)中的L1结构由选自苯、联苯、萘、二苯并呋喃、二苯并噻吩、咔唑中的任意一种化合物去掉任意两个H原子而提供,或者式(I)中的L1结构不存在而使得式(I)中的A结构与B结构直接连接;

在式(I-1)中,X为O或S;

R3、R4各自独立地选自苯基、联苯基、萘基、9,9-二甲基芴去掉共轭环上的任意一个H原子提供的基团、二苯并呋喃基、二苯并噻吩基中的至少一种基团。

5.根据权利要求1或4所述的化合物,其中,式(I)所示结构的化合物选自以下中的任意一种:

6.根据权利要求1所述的化合物,其中,

式(I)中的A结构由式(I-1)所示的结构去掉任意一个H原子而提供;

式(I)中的B结构由式(I-4)所示的结构或式(I-5)所示的结构提供;

式(I)中的L1结构由选自苯、联苯、萘、二苯并呋喃、二苯并噻吩、咔唑中的任意一种化合物去掉任意两个H原子而提供,或者式(I)中的L1结构不存在而使得式(I)中的A结构与B结构直接连接;

在式(I-1)中,X为O或S。

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