[发明专利]一种基于PVDF压电薄膜的降噪装置在审

专利信息
申请号: 202010756585.5 申请日: 2020-07-31
公开(公告)号: CN111884540A 公开(公告)日: 2020-11-03
发明(设计)人: 周键炜;林一平 申请(专利权)人: 林一平
主分类号: H02N2/18 分类号: H02N2/18
代理公司: 北京联创佳为专利事务所(普通合伙) 11362 代理人: 孙帅平
地址: 550000 贵州省贵阳*** 国省代码: 贵州;52
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 pvdf 压电 薄膜 装置
【权利要求书】:

1.一种基于PVDF压电薄膜的降噪装置,其特征在于,包括被折弯呈平底U型对偶结构的PVDF薄膜条(2),平底U型对偶结构的两悬臂长度l相等。

2.根据权利要求1所述的基于PVDF压电薄膜的降噪装置,其特征在于,所述PVDF薄膜条单边为悬臂结构,悬臂长度l计算如下:

式中,常数k=1.015;

PVDF薄膜条的等效弹性模量,一般E=2~4GPa,

t为PVDF薄膜条(2)厚度;

PVDF薄膜密度,一般ρ=1.78×103kg/m3

w*为单边悬臂的一阶固有频率,取拟吸收噪声的中心频率。

3.根据权利要求2所述的基于PVDF压电薄膜的降噪装置,其特征在于,所述的悬臂长度l为1.5~10mm。

4.根据权利要求1所述的基于PVDF压电薄膜的降噪装置,其特征在于,所述的PVDF薄膜条(2)的表面涂覆有镀银层。

5.根据权利要求1所述的基于PVDF压电薄膜的降噪装置,其特征在于,还包括基板(1),基板(1)上排列有一个以上的消音单元,每个消音单元由一个以上所述的平底U型对偶结构的PVDF薄膜条(2)排列构成。

6.根据权利要求5所述的基于PVDF压电薄膜的降噪装置,其特征在于,所述的基板(1)上排列有定位槽(3);所述的消音单元还包括定位条(4),定位条(4)能被定位槽(3)卡合定位,定位条(4)上排列有一个以上的平底U型对偶结构的PVDF薄膜条(2)。

7.根据权利要求6所述的基于PVDF压电薄膜的降噪装置,其特征在于,所述的PVDF薄膜条(2)通过黏胶或者压条固定在定位条(4)上。

8.根据权利要求5所述的基于PVDF压电薄膜的降噪装置,其特征在于,所述的消音单元定位条(4)上PVDF薄膜条(2)间的悬臂长度l能设置为不等长。

9.根据权利要求5所述的基于PVDF压电薄膜的降噪装置,其特征在于,所述的基板(1)上排列的消音单元间的PVDF薄膜条(2)的悬臂长度l能设置为不等长。

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