[发明专利]将频谱轨迹处理和自适应门限生成进行一体化设计的方法有效
申请号: | 202010760835.2 | 申请日: | 2020-07-31 |
公开(公告)号: | CN111896808B | 公开(公告)日: | 2023-02-03 |
发明(设计)人: | 杨志兴;杨青;高长全;王珂琛 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十一研究所 |
主分类号: | G01R23/16 | 分类号: | G01R23/16;G01R23/20;G06F16/2455 |
代理公司: | 北京天奇智新知识产权代理有限公司 11340 | 代理人: | 陈岚崴 |
地址: | 266000 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 频谱 轨迹 处理 自适应 门限 生成 进行 一体化 设计 方法 | ||
本发明公开了一种将频谱轨迹处理和自适应门限生成进行一体化设计的方法,步骤1,获取当前最新的轨迹数据作为输入;步骤2,检测当前的数据处理模式,并进行判断,不同的模式进入不同的处理流程;步骤3:不论进入那一种模式,经过对应算法处理之后得到新的数据即为最终的结果输出。采用本发明的设计思路之后,可以将固定门限和环境门限作为一个新的模式添加到本发明的一体化设计程序中。如果模式被设置为固定门限(eFixed)后,程序不需要对当前输入的轨迹数据进行处理,只需要将预先设定的门限数据作为结果输出即可。
技术领域
本发明涉及频谱监测技术领域,尤其涉及的是,一种将频谱轨迹处理和自适应门限生成进行一体化设计的方法。
背景技术
在频谱监测中,很多时候在开始实际的频谱监测业务之前,一般都需要先对当前的电磁环境进行观察和录制,因此在一般的频谱监测软件中都会提供一个背景录制模式。在该模式中针对用户不同的监测需要,都会提供若干背景录制的数据处理模式:最大保持、最小保持和平均等。这些模式的含义跟频谱分析仪中的轨迹处理模式的含义是一致的。另外,在频谱监测中,为了可以进行自动信号搜索,都需要设置一个合适的信号检测门限,监测软件就是利用这个门限进行信号和噪声的判定:若频谱谱线高于门限,则认为是一个信号;若低于门限,则认为是噪声。目前,监测软件提供的门限主要包括下面几种:固定门限、环境门限和自适应门限等。有时,当前需要检测的电磁环境非常复杂,无法利用常规的固定门限和环境门限来进行监测,需要提供一个适用于当前环境的自适应门限。这就要求在背景录制模式中,提供自适应门限生成的相应功能。综上所述,背景录制模式既要具备常规的频谱轨迹处理模式,又要具备自适应门限的实时生成功能。无论是轨迹的处理还是自适应门限的生成,都需要在软件设计中,按照各自的功能要求进行软件编码实现。
现有的实现方案介绍如下:如前所述,轨迹的处理方式本来是频谱分析仪中的功能;而自适应门限属于信号搜索中的必备功能,两者属于不同的业务领域。因此在现有的设计方案中是按照各自的业务领域的需求进行单独设计的,即频谱轨迹处理是一套单独的软件或动态库,自适应门限生成是一套单独的软件或动态库。具体到背景录制模式中,就是轨迹处理是一套单独的动态库,而自适应门限产生是一套单独的动态库。因此在背景录制模式的App中,首先需要为这两个功能建立单独的开发工程,分别在各自的工程中开发相应的功能,然后通过编译链接形成动态库。在背景录制模式中使用时,需要将两个动态库分别加载到当前App中,然后在程序的初始化中,需要分别定义轨迹处理的对象和自适应门限产生对象。然后在后续的整机数据处理中,利用定义好的两个对象实现轨迹数据的不同处理,从而完成背景录制中不同的数据处理要求。
现有技术的缺点如下:1、首先,在程序开发上,轨迹数据处理和自适应门限生成属于两个不同的工程,需要为每个功能单独建立一个工程;2、其次,在软件开发效率上,由于两者都是针对当前获取的轨迹进行不同的处理,然后得到最终的数据处理结果。为了得到最终的数据结果,需要在程序中开辟临时的数据缓冲区来保存运算的中间结果;当数据量较大时,这在程序空间的利用上是非常不经济的;3、然后,在两者的调用上也比较麻烦。由于是两套动态库,在使用时,需要分别将两套动态库加载到App中,然后在程序中分别定义两个不同的对象。开发者需要牢记两个对象包含的功能,在App的相应位置调用对应对象的功能。这在程序的调用上也不够简洁和方便。4、最后,现有开发方式的扩展性不好。如果在后续的程序升级中,如果需要增加一个新的数据处理功能:比如也是针对当前获取的轨迹数据,经过一个特殊的数据处理,然后得到一个最终的结果。现有的技术方案需要重复下面的过程:新建动态库工程、编码设计、App中加载动态库、定义对象和使用。扩展性非常不好。
因此,现有技术存在缺陷,急需改进。
发明内容
为解决现有技术中的问题,本发明提供一种将频谱轨迹处理和自适应门限生成进行一体化设计的方法,包括以下步骤:频谱分析仪中的轨迹处理流程、自适应门限的产生流程以及一体化设计流程;
所述频谱分析仪中的轨迹处理流程,具体步骤如下所示:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第四十一研究所,未经中国电子科技集团公司第四十一研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010760835.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。