[发明专利]显示基板及其制备方法、掩膜版

权利要求书

1.一种显示基板，其特征在于，包括：

衬底；

第一导电图案层，所述第一导电图案层设置在所述衬底上，所述第一导电图案层包括：多个第一导电图案；

第一绝缘层，所述第一绝缘层位于所述第一导电图案层远离所述衬底的一侧，所述第一绝缘层上具有多个开口部；以及

第二导电图案层，所述第二导电图案层可反光且位于所述第一绝缘层远离所述衬底的一侧，所述第二导电图案层包括多条大致平行的导电线；

每条导电线通过至少一个开口部与至少一个所述第一导电图案电连接，所述导电线在所述至少一个开口部上的部分与所述至少一个开口部共形；每个开口部包括沿所述导电线的宽度方向相对的第一侧壁和第二侧壁，不同开口部的第一侧壁的倾斜方向相同，不同开口部的第二侧壁的倾斜方向相同；至少两条所述导电线对应的第一侧壁的坡度角之差大于5°，和/或，至少两条所述导电线对应的第二侧壁的坡度角之差大于5°。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述坡度角的取值范围为20°～80°。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述多条大致平行的导电线中包括栅线、发光控制线中的至少一者，或者，包括数据线、电源线、时钟信号线中的至少一者。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第二导电图案层还包括：多个第一电极；

所述显示基板还包括：依次设置于每个第一电极远离所述衬底一侧的发光功能层和第二电极，所述第一电极、所述发光功能层和所述第二电极组成发光器件；

所述第一绝缘层为平坦层。

5.根据权利要求1～4任一项所述的显示基板，其特征在于，还包括：

沿所述第一导电图案层靠近所述衬底的一侧依次设置的第二绝缘层和第三导电图案层，所述第三导电图案层包括多个第三导电图案；一个第三导电图案与一个所述第一导电图案通过第二绝缘层上的过孔电连接；

所述导电线通过至少一个所述第一导电图案与至少一个第三导电图案电连接。

6.一种用于制作如权利要求1-4任一项所述的显示基板中的第一绝缘层的掩膜版，其特征在于，包括：

掩膜本体；

设置在掩膜本体上的多个透光部，每个透光部被配置为形成一个所述第一绝缘层上的开口部；

每个所述透光部均包括全透图案，所述全透图案具有最大透过率；至少一个所述透光部还包括：沿所述显示基板中所述导电线的宽度方向，位于所述全透图案至少一侧且与所述全透图案连接的半透图案，每个半透图案的透过率小于所述最大透过率，所述半透图案的透过率被配置为形成与所述半透图案对应的所述开口部的一侧壁的坡度角。

7.根据权利要求6所述的掩膜版，其特征在于，

所述半透图案为半色调掩膜图案；或者，所述半透图案为灰色调掩膜图案。

8.一种用于制作如权利要求1-4任一项所述的显示基板中的第一绝缘层的掩膜版，其特征在于，包括：

掩膜本体；

设置在掩膜本体上的多个遮光部，每个遮光部被配置为形成一个所述第一绝缘层上的开口部；

每个所述遮光部均包括遮光图案，所述遮光图案具有最小透过率；至少一个所述遮光部还包括：沿所述显示基板中所述导电线的宽度方向，位于所述遮光图案至少一侧且与所述遮光图案连接的半透图案，每个半透图案的透过率大于所述最小透过率，所述半透图案的透过率被配置为形成与所述半透图案对应的所述开口部的一侧壁的坡度角。

9.根据权利要求8所述的掩膜版，其特征在于，

所述半透图案为半色调掩膜图案；或者，所述半透图案为灰色调掩膜图案。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-5任一项所述的显示基板。