[发明专利]清洗设备

说明书

本发明提供了一种清洗设备，用于对目标物体进行清洗，清洗设备包括：清洗池，清洗池用于容纳清洗液；清洗装置，清洗装置包括用于承载目标物体的承载部，清洗装置的至少部分可运动地设置以使承载部的至少部分浸入清洗池内的清洗液中，或使承载部与清洗池内的清洗液脱离接触；第一输送装置，用于将待清洗的目标物体由上料位置输送至承载部上；第二输送装置，用于将清洗后的目标物体由承载部输送至下料位置。本发明的清洗设备解决了现有技术中的清洗设备的清洗效率低的问题。

技术领域

本发明涉及物品清洗领域，具体而言，涉及一种清洗设备。

背景技术

目前，在一些清洗作业过程中，虽然能够实现部分自动化，但仍然需要人工的参与。

例如，在餐具清洗过程中，需要操作人员将上料位置的待清洗餐具放入清洗池内，待清洗结束后，还需要操作人员将清洗池内的餐具取出并放置到下料位置，不仅操作较繁琐，清洗效率低，而且存在将清洗后的餐具再次污染的风险。

因此，现有的清洗设备仍然存在机械化程度低、清洗效率低的问题。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种清洗设备，以解决现有技术中的清洗设备的清洗效率低的问题。

为了实现上述目的，本发明提供了一种清洗设备，用于对目标物体进行清洗，清洗设备包括：清洗池，清洗池用于容纳清洗液；清洗装置，清洗装置包括用于承载目标物体的承载部，清洗装置的至少部分可运动地设置以使承载部的至少部分浸入清洗池内的清洗液中，或使承载部与清洗池内的清洗液脱离接触；第一输送装置，用于将待清洗的目标物体由上料位置输送至承载部上；第二输送装置，用于将清洗后的目标物体由承载部输送至下料位置。

进一步地，清洗设备包括辅助输送装置，辅助输送装置设置在承载部上，辅助输送装置用于将位于承载部上的目标物体输送至第二输送装置上。

进一步地，第一输送装置、第二输送装置和辅助输送装置均为输送线结构。

进一步地，清洗装置包括旋转支架，旋转支架绕第一预定轴线可转动地设置，承载部吊设在旋转支架上，承载部相对于旋转支架绕第二预定轴线可转动地设置；其中，第一预定轴线与第二预定轴线平行。

进一步地，承载部为多个，多个承载部绕第一预定轴线均匀分布。

进一步地，第一输送装置和/或第二输送装置相对于清洗装置可运动地设置以具有与承载部对接的对接状态和与承载部分离的分离状态。

进一步地，第一输送装置和/或第二输送装置具有插接端，当第一输送装置和/或第二输送装置处于对接状态时，插接端插入承载部的下方，以对承载部进行支撑。

进一步地，清洗设备包括：两个直线驱动机构，两个直线驱动机构分别与第一输送装置和第二输送装置一一对应地连接，以通过两个直线驱动机构驱动对应地驱动第一输送装置和第二输送装置运动；两个直线导向机构，两个直线导向机构分别与第一输送装置和第二输送装置一一对应地连接，以通过两个直线导向机构对第一输送装置和第二输送装置的运动进行导向。

进一步地，直线驱动机构包括齿条、第一电机、第一齿轮，齿条安装在第一输送装置或第二输送装置上，第一齿轮与齿条啮合，第一齿轮与第一电机的输出轴连接，以在第一电机带动第一齿轮旋转时，驱动齿条运动；直线导向机构包括滑轨和滑块，滑块可滑动地安装在滑轨上，滑块与第一输送装置或第二输送装置连接。

进一步地，清洗设备包括漂洗装置，漂洗装置设置在清洗池的上方，以在承载部与清洗池内的清洗液脱离接触后，通过漂洗装置对承载部上的目标物体进行漂洗。

进一步地，清洗设备包括超声波发生装置，超声波发生装置用于向清洗池中发射超声波；和/或，清洗设备包括扰流装置，扰流装置具有喷液孔，以通过喷液孔向目标物体喷射清洗液。