[发明专利]镀膜设备、方法、系统及太阳能电池、组件、发电系统

权利要求书

1.一种异质结太阳能电池镀膜设备，用于异质结太阳能电池非晶硅基薄膜沉积，其包括工艺腔，其特征在于：

所述工艺腔包括：

本征工艺腔：至少有两个，多个连续的本征工艺腔用于本征层硅薄膜工艺的沉积；在至少两个本征工艺腔中分步骤完成本征层硅薄膜的沉积镀膜；

掺杂工艺腔：至少有一个，用于N型硅薄膜或P型硅薄膜工艺的沉积；

各个腔体之间采用隔断阀相隔绝；镀膜设备中的各腔体按照装载腔、预热腔、本征工艺腔、掺杂工艺腔、卸载腔的顺序线性排布，用于对太阳能电池片一侧的本征层硅薄膜和N/P型硅薄膜的沉积镀膜，同类型的工艺腔体之间压力差值小于20%；

其中，所述预热腔包括：

加热预热腔，用于对装载待加工太阳能电池片的载板加热；

预热缓冲腔，位于加热预热腔和本征工艺腔之间，用于调节气体和压力氛围。

2.根据权利要求1所述的异质结太阳能电池镀膜设备，其特征在于：所述卸载腔包括卸载缓冲腔和卸料卸载腔。

3.根据权利要求1所述的异质结太阳能电池镀膜设备，其特征在于：在加工方向上，后一本征工艺腔内的氢气占比高于或等于前一本征工艺腔内的氢气占比。

4.根据权利要求1所述的异质结太阳能电池镀膜设备，其特征在于：所述的本征工艺腔和掺杂工艺腔内设置有用于通过化学气相沉积方式形成薄膜的电容耦合式平板结构。

5.根据权利要求4所述的异质结太阳能电池镀膜设备，其特征在于：所述工艺腔内的电容耦合式平板与装载待加工太阳能电池片的载板的平板电容间距为5-60mm。

6.根据权利要求5所述的异质结太阳能电池镀膜设备，其特征在于：至少两个所述工艺腔的平板电容间距不相同。

7.根据权利要求1所述的异质结太阳能电池镀膜设备，其特征在于：在其中一个或多个所述工艺腔内设置有独立的加热模块，用于调节腔体的工作温度，该工作温度为100-400℃。

8.根据权利要求7所述的异质结太阳能电池镀膜设备，其特征在于：至少两个所述工艺腔内的温度不相同。

9.根据权利要求1-8任一项所述的异质结太阳能电池镀膜设备，其特征在于：该镀膜设备设置有用于装载待加工太阳能电池片的载板，利用滚轮机构实现载板的传输，滚轮的传输速度为100 -800 mm/s。

10.根据权利要求9所述的异质结太阳能电池镀膜设备，其特征在于：所述滚轮的传输速度为200-700 mm/s。

11.根据权利要求10所述的异质结太阳能电池镀膜设备，其特征在于：所述滚轮的传输速度为300-600 mm/s。

12.根据权利要求9所述的异质结太阳能电池镀膜设备，其特征在于：所述载板上表面涂覆绝缘涂层。

13.根据权利要求9所述的异质结太阳能电池镀膜设备，其特征在于：所述载板下表面涂覆导电涂层。

14.根据权利要求9所述的异质结太阳能电池镀膜设备，其特征在于：所述载板为复合结构，包括基板和支撑单元，基板上设置有多个阵列排布的放置部，每个放置部中均设置有所述支撑单元。

15.根据权利要求9所述的异质结太阳能电池镀膜设备，其特征在于：所述预热腔采用非接触加热方式对载板及装载的太阳能电池片加热。