[发明专利]低钾条件下影响水稻苗期根数的QTL qRN5a及其应用在审

专利信息
申请号: 202010769620.7 申请日: 2020-08-03
公开(公告)号: CN111748644A 公开(公告)日: 2020-10-09
发明(设计)人: 程式华;吴玮勋;曹立勇;伊斯兰·阿诺额鲁;张迎信;沈希宏;占小登 申请(专利权)人: 中国水稻研究所
主分类号: C12Q1/6895 分类号: C12Q1/6895;C12N15/113;C12N15/11;C12N15/29;C12N15/82;A01H5/06;A01H6/46
代理公司: 北京市京大律师事务所 11321 代理人: 李洪群
地址: 311401 浙*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 条件下 影响 水稻 苗期 qtl qrn5a 及其 应用
【权利要求书】:

1.低钾条件下影响水稻苗期根数的QTL qRN5a,其特征在于,所述qRN5a位于水稻5号染色体InDel标记A99和A139之间48.8-kb的区间内。

2.与权利要求1所述qRN5a紧密连锁的分子标记,其特征在于,包括15个SNP标记SNP1~SNP15和3个InDel标记InDel1~InDel3;

其中,SNP1位于水稻基因Os05g0346700CDS序列第142bp,多态性为A/G;SNP2位于水稻基因LOC_Os05g27980CDS序列第442bp,多态性为G/T;SNP3位于水稻基因LOC_Os05g28000CDS序列第347bp,多态性为A/G;SNP4位于水稻基因LOC_Os05g28000CDS序列第409bp,多态性为T/C;

SNP5~SNP13分别位于水稻基因Os05g0346700ATG起始密码子上游第-115、-186、-194、-405、-436、-589、-599、-714和-770bp,多态性分别为C/T、A/G、A/G、T/C、G/A、T/C、G/A、G/A和C/T;SNP14位于水稻基因LOC_Os05g27980ATG起始密码子上游第-1054bp,多态性为T/A;SNP15位于水稻基因LOC_Os05g28000ATG起始密码子上游第-586bp,多态性为A/G;

InDel1位于水稻基因Os05g0346700ATG起始密码子上游第-515~-500bp,多态性为TATGGCAGGATTGTCC/-;

InDel2位于水稻基因LOC_Os05g27980ATG起始密码子上游第-4~-5bp,多态性为--/AG;

InDel3位于水稻基因LOC_Os05g27980ATG起始密码子上游第-1109bp,多态性为-/A。

3.用于扩增权利要求2所述分子标记的引物,其特征在于,扩增各分子标记的引物如下:

扩增SNP1的正向引物和反向引物序列分别为SEQ ID NO:13和14;

扩增SNP2的正向引物和反向引物序列分别为SEQ ID NO:15和16;

扩增SNP3和SNP4的正向引物和反向引物序列分别为SEQ ID NO:17和18;

扩增SNP5~SNP13和InDel1的正向引物和反向引物序列分别为SEQ ID NO:19和20、SEQID NO:21和22以及SEQ ID NO:23和24;

扩增SNP14、InDel2和InDel3的正向引物和反向引物序列分别为SEQ ID NO:25和26、SEQ ID NO:27和28以及SEQ ID NO:29和30;

扩增SNP15的正向引物和反向引物序列分别为SEQ ID NO:31和32、SEQ ID NO:33和34以及SEQ ID NO:35和36。

4.权利要求2所述分子标记或其检测试剂的以下任一应用:

(1)用于低钾条件下水稻苗期根系性状的鉴定;

(2)用于耐低钾胁迫水稻材料的早期预测;

(3)用于鉴定低钾条件下影响水稻苗期根数的QTL qRN5a位点;

(4)用于水稻基因Os05g0346700、LOC_Os05g27980和LOC_Os05g28000的基因分型;

(5)用于耐低钾水稻种质资源鉴定或分子标记辅助育种。

5.权利要求1所述qRN5a的以下任一应用:

(1)调控植物根系生长发育;

(2)调控植物苗期低钾条件下根系性状;

(3)植物品种改良;

(4)制备转基因植物;

(5)促进水稻根组织中OsIAA23基因的表达;

(6)抑制水稻根组织中OsHAK5基因的表达;

所述调控为正调控;

所述根系性状为根数;

优选地,所述植物为禾本科植物,更优选水稻。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国水稻研究所,未经中国水稻研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010769620.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top