[发明专利]集成电路和测量方法在审
| 申请号： | 202010770116.9 | 申请日： | 2020-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN112444680A | 公开（公告）日： | 2021-03-05 |
| 发明（设计）人： | 赖纳·斯塔尔德迈尔;弗朗茨·阿姆特曼 | 申请（专利权）人： | 恩智浦有限公司 |
| 主分类号： | G01R27/26 | 分类号： | G01R27/26 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 倪斌 |
| 地址： | 荷兰埃因霍温高科*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 集成电路 测量方法 | ||
1.一种包括电流源和参考电容器的集成电路，其特征在于，所述集成电路被配置成：
使用所述电流源在外部测量电容器中注入第一电流，并且确定所述测量电容器上的所得电压达到电压阈值的第一时间量；
使用所述电流源在所述参考电容器中注入第二电流，并且确定所述参考电容器上的所得电压达到所述电压阈值的第二时间量；
使用所述第一时间量与所述第二时间量之间的差来检测所述测量电容器上电容的变化。
2.根据权利要求1所述的集成电路，其特征在于，另外被配置成在所述测量电容器中注入所述第一电流的同时在所述参考电容器中注入所述第二电流。
3.根据权利要求1或2所述的集成电路，其特征在于，所述第一电流是可配置电流，并且所述第二电流是恒定电流。
4.根据在前的任一项权利要求所述的集成电路，其特征在于，所述第一电流被配置成使得所述测量电容器上的电压斜率与所述参考电容器上的电压斜率基本上相同。
5.根据在前的任一项权利要求所述的集成电路，其特征在于，被配置成在所述集成电路被校准后确定所述第一电流的值。
6.根据在前的任一项权利要求所述的集成电路，其特征在于，另外被配置成：
确定所述测量电容器上的所得电压达到另外的电压阈值的第三时间量；
确定所述参考电容器上的所得电压达到所述另外的电压阈值的第四时间量；
使用所述第三时间量与所述第四时间量之间的差来检测所述测量电容器上电容的变化。
7.一种射频识别RFID标签或近场通信NFC标签，其特征在于，包括根据在前的任一项权利要求所述的集成电路。
8.一种测量系统，其特征在于，包括根据在前的任一项权利要求所述的集成电路，以及所述测量电容器。
9.一种篡改检测系统，其特征在于，包括根据权利要求8所述的测量系统。
10.一种测量方法，其特征在于，包括：
借助于集成电路中的电流源在测量电容器中注入第一电流，并且确定所述测量电容器上的所得电压达到电压阈值的第一时间量；
借助于所述电流源在参考电容器中注入第二电流，并且确定所述参考电容器上的所得电压达到所述电压阈值的第二时间量；
通过所述集成电路使用所述第一时间量与所述第二时间量之间的差来检测所述测量电容器上电容的变化。
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