[发明专利]一种基于HEMT的环形开口太赫兹幅度调制器和制作方法有效
申请号: | 202010772341.6 | 申请日: | 2020-08-04 |
公开(公告)号: | CN111884593B | 公开(公告)日: | 2021-04-20 |
发明(设计)人: | 马勇;潘武;杨力豪;杨龙亮;何金橙;肖惠云 | 申请(专利权)人: | 重庆邮电大学 |
主分类号: | H03C1/00 | 分类号: | H03C1/00;H03C1/36;H04L27/04;G02F1/01 |
代理公司: | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人: | 李朝虎 |
地址: | 400000 重*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 hemt 环形 开口 赫兹 幅度 调制器 制作方法 | ||
1.一种基于HEMT的环形开口太赫兹幅度调制器,其特征在于,包括:半导体衬底(1)、位于半导体衬底表面的外延层(2),外延层上设置有调制阵列(3)、肖特基电极(4)和欧姆电极(5);
所述调制阵列(3)由M×N个调制阵元(31)周期排列组成,其中M为调制阵元(31)纵向排列周期数,N为调制阵元(31)横向排列周期数;
每个调制阵元(31)由4个开口圆环形的结构单元(311)构成,调制阵元(31)中的4个结构单元(311)呈正方形排列,在结构单元(311)距离调制阵元中心最近的位置设置开口,每个调制阵元中开口位置呈中心对称,每个结构单元(311)开口处匹配一个高电子迁移率晶体管(6),所述高电子迁移率晶体管(6)的栅极通过栅极馈线(7)与肖特基电极(4)连接,高电子迁移率晶体管(6)的源极和漏极分别连接结构单元(311)开口的两侧,结构单元(311)通过源漏馈线(8)与欧姆电极(5)连接;肖特基电极(4)连接电源负极,欧姆电极(5)连接电源正极。
2.根据权利要求1所述的一种基于HEMT的环形开口太赫兹幅度调制器,其特征在于,调制阵元(31)中的4个结构单元(311)呈正方形排列,相邻两结构单元的圆心距为:115μm~125μm;
结构单元(311)的外半径为:45μm~55μm,结构单元(311)环宽为:10μm~25μm,结构单元(311)厚度为:0.2μm~1μm;
在结构单元(311)距离调制阵元中心最近的位置设置开口,开口宽为:2μm~6μm;每个调制阵元中开口位置呈中心对称。
3.根据权利要求1所述的一种基于HEMT的环形开口太赫兹幅度调制器,其特征在于,所述栅极馈线(7)包括:第一栅极馈线(71)和第二栅极馈线(72),调制阵元(31)中的所有结构单元(311)的栅极通过第一栅极馈线(71)连接;每行调制阵元共用一条第二栅极馈线(72),各行第二栅极馈线(72)连接至同一肖特基电极(4)连接。
4.根据权利要求3所述的一种基于HEMT的环形开口太赫兹幅度调制器,其特征在于,调制阵元中的第一栅极馈线(71)呈斜十字状排布,第二栅极馈线(72)连接在斜十字的交叉点。
5.根据权利要求2所述的一种基于HEMT的环形开口太赫兹幅度调制器,其特征在于,在每行调制阵元上方和下方均设置一条源漏馈线,调制阵元上方的源漏馈线连接所有上层的结构单元,调制阵元下方的源漏馈线连接所有下层的结构单元,各行的源漏馈线(8)连接至同一欧姆电极(5)。
6.根据权利要求1所述的一种基于HEMT的环形开口太赫兹幅度调制器,其特征在于,调制阵元(31)以240μm宽为一个周期。
7.根据权利要求1所述的一种基于HEMT的环形开口太赫兹幅度调制器,其特征在于,
所述半导体衬底(1)的材料采用碳化硅,半导体衬底(1)厚度为:200μm~270μm;
外延层(2)的材料采用氮化镓。
8.根据权利要求1所述的一种基于HEMT的环形开口太赫兹幅度调制器,其特征在于,
栅极馈线(8)线宽为:1μm~2μm,厚度为:0.2μm~1μm;
源漏馈线(9)线宽为:1μm~2μm,厚度为:0.2μm~1μm。
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