[发明专利]一种抗沉降碳化硼粉体的表面改性处理方法在审
申请号: | 202010772840.5 | 申请日: | 2020-08-04 |
公开(公告)号: | CN111944331A | 公开(公告)日: | 2020-11-17 |
发明(设计)人: | 刘晓强;石秀强;龚碧颖;孟凡江;毛飞;刘刚;钟林秀;鲍一晨;谢永诚;李荣博;郑琪;徐雪莲 | 申请(专利权)人: | 上海核工程研究设计院有限公司 |
主分类号: | C09C1/00 | 分类号: | C09C1/00;C09C3/06;C09C3/12 |
代理公司: | 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 | 代理人: | 刘宁 |
地址: | 200233*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 沉降 碳化 硼粉体 表面 改性 处理 方法 | ||
本发明的目的在于公开一种抗沉降碳化硼粉体的表面改性处理方法,它包括以下步骤:(1)通过筛分的方式得到粒径均一的碳化硼粉体,然后加入稀酸溶液中,升温搅拌2‑4h并超声分散30‑60min,过滤后室温阴干,形成带酸性的小分子包覆层;(2)在阴干好的碳化硼粉体中加入正丁醇,蒸馏水,表面改性剂,在40‑60℃的温度下反应3‑4h,反复洗涤阴干后经真空干燥即得双包覆层的碳化硼粉体;与现有技术相比,碳化硼粉体的超声再分散与稀酸溶液的表面吸收,能形成带酸性的小分子包覆层,与表面改性剂发挥协同作用,有助于提高碳化硼的改性效果,方法简单,成本低,便于推广,实现本发明的目的。
技术领域
本发明涉及一种碳化硼粉体的表面改性处理方法,特别涉及一种抗沉降碳化硼粉体的表面改性处理方法。
背景技术
碳化硼作为最为高效的中子屏蔽吸收体已在核电、军工、存在辐照相关装备领域得到了广泛的应用。尤其是在以液态材料为基体的涂料、浇注灌封材料、涂层包覆材料的制备、存贮及使用过程中的高分散性、高稳定性成为材料质量的关键。
当无机颗粒经偶联剂改性后,它能与偶联剂表面活性基团发生接枝反应,形成稳定的化学键合作用,降低了部分极性官能团的数量。同时,偶联剂与基体之间又建立了化学亲和作用,这样便形成了填料与基体的化学键结合,改善了两相界面的相容性,实现复合材料性能的提高。由于偶联剂的“偶联”作用,改善了有机硅与B4C的界面相容性,减少了界面缺陷及可能存在的空隙,提高了有机硅树脂对碳化硼粉体的润湿能力,改善了碳化硼粉体在有机硅树脂基料中的分散状态。在酸性条件下,B4C和硅烷偶联剂发生水解缩合,将硅烷偶联剂接枝到B4C的表面。由于硅烷偶联剂是一种含有四官能团的分子,在其分子中同时具有能和无机质材料(如玻璃、硅砂、金属等)化学结合的反应基团及与有机质材料(合成树脂等)化学结合的反应基团,经过改性之后的B4C可以更好地和有机材料相容。
因此,特别需要一种抗沉降碳化硼粉体的表面改性处理方法,以解决上述现有存在的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种抗沉降碳化硼粉体的表面改性处理方法,针对现有技术的不足,工艺简单,改性效果好。
本发明所解决的技术问题可以采用以下技术方案来实现:
一种抗沉降碳化硼粉体的表面改性处理方法,其特征在于,它包括以下步骤:
(1)通过筛分的方式得到粒径均一的碳化硼粉体,然后加入稀酸溶液中,升温搅拌2-4h并超声分散30-60min,过滤后室温阴干,形成带酸性的小分子包覆层;
(2)在阴干好的碳化硼粉体中加入正丁醇,蒸馏水,表面改性剂,在40-60℃的温度下反应3-4h,反复洗涤阴干后经真空干燥即得双包覆层的碳化硼粉体。
在本发明的一个实施例中,所述碳化硼粉体为纳米级和微米级粉体,其形态包括球形、片状、棒状、纤维状等多种形态。
在本发明的一个实施例中,所述稀酸包括但不限于盐酸、硫酸、硝酸、苯甲酸和小分子有机酸。
在本发明的一个实施例中,所述表面改性剂为氨甲基三甲氧基硅烷、氨乙基三甲氧基硅烷、氨丙基三甲氧基硅烷、氨甲基三乙氧基硅烷、氨乙基三乙氧基硅烷、氨丙基三乙氧基硅烷(KH550)、N-氨乙基-氨丙基三甲氧基硅烷、N-氨乙基-氨丙基三乙氧基硅烷、N-氨乙基-氨丙基甲基二甲氧基硅烷、N-氨乙基-氨丙基甲基二乙氧基硅烷、氨甲基甲基二甲氧基硅烷、氨乙基甲基二甲氧基硅烷、氨丙基甲基二甲氧基硅烷、氨甲基甲基二乙氧基硅烷、氨乙基甲基二乙氧基硅烷、氨丙基甲基二乙氧基硅烷(JH-M902)、缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷(KH560)、甲基苯基三甲氧基硅烷等中的一种或多种的混合物。
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