[发明专利]用于大豆生产加工的超声波清洗构件

权利要求书

1.用于大豆生产加工的超声波清洗构件，其特征在于：其包括固定于安装架上的第二清洗机构、输送机构以及烘干机构，输送机构设置于第二清洗机构与烘干机构之间，输送机构的输入端与第二清洗机构的输出端相连接、输出端与烘干机构的输入端相连接，烘干机构的输出端为大豆的最终排料端，第二清洗机构用于对大豆进行超声波清洗并且该清洗为二次清洗，输送机构用于将二次清洗后的大豆输送至烘干机构内并且在此输送的过程中对大豆进行沥水处理；

所述的第二清洗机构包括与安装架固定连接的托盘，托盘为轴向竖直布置的圆形盘体结构并且为向上的浅口状，托盘上同轴转动设置有旋转轴，旋转轴的上端位于托盘内并且该端同轴固定套接有圆形的转盘、下端位于托盘的底部，转盘的外圆面与托盘的内圆面转动配合，转盘的下端面与托盘的底部密封式转动连接配合，转盘的偏心位置处开设有上下贯穿的圆形清洗腔，清洗腔设置有四个并且沿转盘所在圆周方向阵列布置，所述托盘的底部固定设置有圆形的超声波清洗器且超声波清洗器位于托盘的偏心位置处，所述托盘的底部固定设置有与其连接接通的圆形下料斗且下料斗位于托盘的偏心位置处，清洗腔、超声波清洗器以及下料斗等直径布置，初始状态下其中两个清洗腔的下端由托盘的底部进行密封封堵并且将这两个位置处的清洗腔设为限闲置清洗腔，另外两个清洗腔中的其中一个清洗腔的下端与超声波清洗器的振动面同轴并且由该振动面对该清洗腔进行密封封堵，另外两个清洗腔中的另一清洗腔与下料斗同轴连接接通，与超声波清洗器配合的清洗腔和与下料斗配合的清洗腔相互紧邻设置。

2.根据权利要求1所述的用于大豆生产加工的超声波清洗构件，其特征在于：所述的第二清洗机构还包括固定安装于安装架上的步进电机，且步进电机位于托盘的一侧，步进电机的输出轴轴向平行于旋转轴的轴向，步进电机的输出轴与旋转轴的下端之间设置有用于连接两者的带传动组件二，带传动组件二可将步进电机输出轴上的动力传递至旋转轴上并且带动旋转轴进行转动。

3.根据权利要求1所述的用于大豆生产加工的超声波清洗构件，其特征在于：所述的输送机构包括与安装架固定连接的固定架，固定架由倾斜布置的矩形底板以及固定设置于底板侧面且立式向上弯折的矩形护板构成，底板与护板的倾斜角度为二十五度至三十五度之间，所述底板沿其倾斜方向的下端处设置有主动滚筒、沿其倾斜方向的上端处设置有从动滚筒，主动滚筒与从动滚筒的轴向平行于两护板的间距方向，主动滚筒与从动滚筒的端部和护板均构成转动连接配合，主动滚筒与从动滚筒之间绕接设置有构成闭合循环回路的输送带，输送带的倾斜角度与底板的倾斜角度一致，并且输送带的倾斜下端为输入端、倾斜上端为输出端，输送带沿其宽度方向的一侧与其中一护板的内侧相贴合、沿其宽度方向的另一侧与另一护板的内侧相贴合，输送带的带面上固定设置有垂直于其带面的挡板，挡板的端部分别与护板的内侧相贴合，挡板设置有多个并且沿输送带的运转循环方向等间距阵列布置，相邻两挡板以及护板共同构成的蓄料槽并且蓄料槽用于蓄积输送大豆，所述的下料斗位于输送带输入端的正上方。

4.根据权利要求3所述的用于大豆生产加工的超声波清洗构件，其特征在于：所述输送带的带面上开设有若干贯穿的排水孔，排水孔均匀分布于蓄料槽内，所述输送带沿其输送方向中部位置的正上方设置有花洒，花洒与护板固定连接，花洒的输入端与自来水连接接通、输出端竖直向下指向输送带。

5.根据权利要求3所述的用于大豆生产加工的超声波清洗构件，其特征在于：所述的输送机构还包括固定安装于底板下方的输送电机，输送电机的输出轴轴向平行于主动滚筒的轴向，输送电机输出轴与主动滚筒的驱动端之间设置有用于连接两者的带传动组件三，带传动组件三用于将输送电机输出轴上的动力传递至主动滚筒上并且带动主动滚筒进行转送。