[发明专利]一种用于金刚石生长的PLC辉光控制方法及装置

权利要求书

1.一种用于金刚石生长的PLC辉光控制方法，其特征在于，包括步骤：

获取初始辉光功率以及辉光功率与真空压力的配方表，在金刚石生长过程中，射频电源辉光功率按照所述配方表中的关系随着真空压力变化而变化，且变化趋势相同；

控制射频电源开启辉光放电，并获取第一实时辉光功率以及真空腔体内的第一实时压力，根据所述配方表中生长准备阶段的标准真空压力与所述第一实时压力的比较结果对所述射频电源进行控制，直至所述第一实时辉光功率从所述初始辉光功率达到目标辉光功率，同时所述第一实时压力从初始压力达到目标压力；所述第一实时辉光功率先保持较大的恒定速率、后保持较小的恒定速率，所述第一实时压力先保持较大的恒定速率、后保持较小的恒定速率；

控制所述射频电源继续进行辉光放电，使所述目标辉光功率保持不变，同时控制所述目标压力保持不变；

控制所述射频电源逐渐降低辉光放电功率，并获取第二实时辉光功率以及真空腔体内的第二实时压力，根据所述配方表中生长结束阶段的标准真空压力与所述第二实时压力的比较结果对所述射频电源进行控制，直至所述第二实时辉光功率从所述目标辉光功率下降至所述初始辉光功率，同时所述第二实时压力从所述目标压力下降至所述初始压力；所述第二实时辉光功率先保持在较小的恒定速率、后保持在较大的恒定速率，所述第二实时压力先保持较小的恒定速率、后保持较大的恒定速率；

其中，根据所述配方表中生长准备阶段的标准真空压力与所述第一实时压力的比较结果对所述射频电源进行控制，包括：将所述第一实时压力与所述生长准备阶段的标准真空压力进行比较；当所述第一实时压力与所述生长准备阶段的标准真空压力相等时，在所述配方表中查找与所述生长准备阶段的标准真空压力对应的生长准备阶段的标准辉光功率；根据所述生长准备阶段的标准辉光功率对所述射频电源进行控制，以使所述第一实时辉光功率和所述配方表中所述生长准备阶段的标准辉光功率相等；

根据所述配方表中生长结束阶段的标准真空压力与所述第二实时压力的比较结果对所述射频电源进行控制，包括：将所述第二实时压力与所述生长结束阶段的标准真空压力进行比较；当所述第二实时压力与所述生长结束阶段的标准真空压力相等时，在所述配方表中查找与所述生长结束阶段的标准真空压力对应的生长结束阶段的标准辉光功率；根据所述生长结束阶段的标准辉光功率对所述射频电源进行控制，以使所述第二实时辉光功率和所述配方表中所述生长结束阶段的标准辉光功率相等。

2.如权利要求1所述的用于金刚石生长的PLC辉光控制方法，其特征在于，所述初始辉光功率为0.6Kw，所述初始压力为10～40mbar，所述目标辉光功率为4～6Kw，所述目标压力为300～500mbar。

3.如权利要求1所述的用于金刚石生长的PLC辉光控制方法，其特征在于，还包括：

获取当所述射频电源进行辉光放电时的实时反射功率；

根据所述实时反射功率与预先获取的反射功率上限的比较结果对所述射频电源的运行进行控制。

4.如权利要求3所述的用于金刚石生长的PLC辉光控制方法，其特征在于，根据所述实时反射功率与预先获取的反射功率上限的比较结果对所述射频电源的运行进行控制，包括：

将所述实时反射功率与所述反射功率上限进行比较；

当所述反射功率上限小于或等于所述实时反射功率时，控制所述射频电源停止辉光放电；

当所述反射功率上限大于所述实时反射功率时，控制所述射频电源继续辉光放电。