[发明专利]一种局域电场增强磁光效应的衬底在审
申请号: | 202010777516.2 | 申请日: | 2020-08-05 |
公开(公告)号: | CN111856790A | 公开(公告)日: | 2020-10-30 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 中山科立特光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/09 | 分类号: | G02F1/09;G02B5/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 528458 广东省中山市中山火炬开发区中心城区港*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 局域 电场 增强 磁光效应 衬底 | ||
1.一种局域电场增强磁光效应的衬底,其特征在于,包括:基底和周期排列的微结构单元,所述微结构单元为一维线栅形,所述微结构单元周期性地置于所述基底上,所述微结构单元包括第一微纳结构部、第二微纳结构部和磁性材料部,所述第一微纳结构部、所述第二微纳结构部、所述磁性材料部均置于所述基底上,所述磁性材料部置于所述第一微纳结构部和所述第二微纳结构部之间,所述第一微纳结构部和所述第二微纳结构部的材料为贵金属。
2.如权利要求1所述的局域电场增强磁光效应的衬底,其特征在于:所述第一微纳结构部、所述第二微纳结构部、所述磁性材料部为矩形。
3.如权利要求2所述的局域电场增强磁光效应的衬底,其特征在于:所述第一微纳结构部的侧面与所述第二微纳结构部的侧面平行。
4.如权利要求3所述的局域电场增强磁光效应的衬底,其特征在于:所述第一微纳结构部与所述第二微纳结构部的高度相等。
5.如权利要求4所述的局域电场增强磁光效应的衬底,其特征在于:所述第一微纳结构部与所述第二微纳结构部的高度大于200纳米。
6.如权利要求5所述的局域电场增强磁光效应的衬底,其特征在于:所述第一微纳结构部与所述第二微纳结构部之间的距离小于100纳米。
7.如权利要求6所述的局域电场增强磁光效应的衬底,其特征在于:所述第一微纳结构部与所述第二微纳结构部的宽度相等。
8.如权利要求1-7任一项所述的局域电场增强磁光效应的衬底,其特征在于:所述磁性材料部的高度大于所述第一微纳结构部的高度。
9.如权利要求8所述的局域电场增强磁光效应的衬底,其特征在于:所述基底的材料为非磁性材料。
10.如权利要求9所述的局域电场增强磁光效应的衬底,其特征在于:所述磁性材料部的材料为钴、铋铁石榴石。
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