[发明专利]三维断层摄影检查装置及方法在审

专利信息
申请号: 202010780516.8 申请日: 2020-08-05
公开(公告)号: CN112326600A 公开(公告)日: 2021-02-05
发明(设计)人: 甄秉友;金泰翰;金珉洙 申请(专利权)人: 株式会社湖碧驰
主分类号: G01N21/45 分类号: G01N21/45
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 金鲜英;张敬强
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 三维 断层 摄影 检查 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种三维断层摄影检查装置,其特征在于,包括:

两个以上的光干涉断层摄影部(20、30、40),其对包括具有以彼此不同的角度设置的表面的两个以上的摄影区域的检查对象物(5)的两个以上的摄影区域分别进行断层摄影,其中,与检查对象物(5)的各摄影区域的表面倾斜角度对应地,测量光(L)的入射角度各自不同;以及

运算部(50),其合成由所述两个以上的光干涉断层摄影部(20、30、40)获得的影像(6a、6b、6c)的数据来获得检查对象物(5)的整体断层影像。

2.根据权利要求1所述的三维断层摄影检查装置,其特征在于,

所述测量光(L)的入射角度(d)相对于检查对象物(5)的各摄影区域表面为45至135度。

3.根据权利要求1所述的三维断层摄影检查装置,其特征在于,

在所述两个以上的光干涉断层摄影部(20、30、40),与检查对象物(5)的各摄影区域表面的倾斜角度对应地,反射光(S)的检测角度各自不同,以便能够检测由检查对象物(5)的各摄影区域反射的反射光(S)。

4.根据权利要求1所述的三维断层摄影检查装置,其特征在于,

所述检查对象物(5)是具有与地面平行地设置的上部面(5a)、以及相对于所述上部面(5a)以规定的角度倾斜而从所述上部面(5a)延伸的左侧面(5b)及右侧面(5c)的板形态的物体,

所述两个以上的光干涉断层摄影部(20、30、40)包括:

上部面光干涉断层摄影部(20),其拍摄检查对象物(5)的上部面(5a);以及

左侧面光干涉断层摄影部(30)及右侧面光干涉断层摄影部(40),其位于所述上部面光干涉断层摄影部(20)的侧面而分别拍摄检查对象物(5)的左侧面(5b)及右侧面(5c)。

5.根据权利要求1所述的三维断层摄影检查装置,其特征在于,

所述运算部(50)检测由所述两个以上的光干涉断层摄影部(20、30、40)获得的影像(6a、6b、6c)的数据边界,所述影像(6a、6b、6c)包括测量光(L)入射的方向的检查对象物(5)的表面影像(6af、6bf、6cf)和测量光(L)通过检查对象物(5)时折射而被歪曲的检查对象物(5)的后面影像(6ab’、6bb’、6cb’),

所述运算部(50)利用测量光(L)的入射角度(d)及检查对象物(5)的折射率将检查对象物(5)的后面影像(6ab’、6bb’、6cb’)校正为未被歪曲的实际后面影像(6ab、6bb、6cb)之后,合成所述影像(6a、6b、6c)的数据来获得检查对象物(5)的整体断层影像。

6.根据权利要求5所述的三维断层摄影检查装置,其特征在于,

所述运算部(50)由检测到的所述影像(6a、6b、6c)的表面影像(6af、6bf、6cf)的数据计算定义检查对象物(5)的表面影像(6af、6bf、6cf)的表面函数,

并利用通过所述表面函数获得的检查对象物(5)的表面影像(6af、6bf、6cf)的位置上的测量光(L)的入射角度及检查对象物(5)的折射率将与该位置对应的被歪曲的后面影像(6ab’、6bb’、6cb’)校正为未被歪曲的实际后面影像(6ab、6bb、6cb)。

7.一种三维断层摄影检查方法,其特征在于,包括:

对检查对象物(5)的上部面(5a)进行光干涉断层摄影来获得上部面影像(6a)的步骤(S10);

相对于所述上部面(5a)的光干涉断层摄影方向以规定角度(e)对检查对象物(5)的侧面(5b、5c)进行光干涉断层摄影来获得侧面影像(6b、6c)的步骤(S10);以及

结合所述上部面影像(6a)及侧面影像(6b、6c)的步骤(S34)。

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