[发明专利]一种在低活化钢表面制备非晶态钨涂层的方法在审
| 申请号： | 202010781549.4 | 申请日： | 2020-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN111893450A | 公开（公告）日： | 2020-11-06 |
| 发明（设计）人： | 罗来马;吴左生;吴玉程;徐跃;刘东光;昝祥 | 申请（专利权）人： | 合肥工业大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/16 |
| 代理公司： | 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 | 代理人： | 乔恒婷 |
| 地址： | 230009 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 活化 表面 制备 晶态 涂层 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种在低活化钢表面制备非晶态钨涂层的方法，其特征在于包括如下步骤：
步骤1：基体的前处理
将RAFM钢基体经过碳化硅砂纸逐级打磨并抛光至镜面，超声清洗并烘干后得到表面光洁平整的RAFM钢试样；
步骤2：涂层的制备
将步骤1获得的RAFM钢试样和钨靶安装在磁控溅射腔室内，抽真空至2×10-4帕，通入氩气和少量氧气，通过流量计调节氩气和氧气的流量比以及总的工作气压，然后打开直流溅射开关，设定溅射功率，预溅射十分钟左右后，启动溅射程序，溅射结束后获得RAFM钢表面上非晶钨涂层。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：
步骤1中，将RAFM钢基体依次经过120#、320#、600#、800#碳化硅砂纸逐级打磨并抛光至镜面。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：
步骤2中，钨靶纯度为99.95％。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：
步骤2中，直流溅射功率调节至20W，工作气压2～4Pa，氧气和氩气的流量比为1:20。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：
所述非晶钨涂层的厚度在1～2微米，结合力在12～16N。
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