[发明专利]一种半导体制冷片生产用基板加工装置

说明书

本发明涉及半导体制冷片加工附属装置的技术领域，特别是涉及一种半导体制冷片生产用基板加工装置，其可以同时对瓷片的两面进行打磨，因此可以提高瓷片加工效率，同时降低了使得瓷片的两打磨面具有较高的平行度的难度；包括工作台和打磨机构，工作台的底端设置有四组支腿；还包括固定架、支持板、两组调节板、两组挤压板、两组气缸组件、两组支撑板、两组限位轴、两组挡环、抬动把手和固定板，固定架的左下部区域与工作台的顶端左侧连接，固定板的顶端与固定架的右上部区域底端连接，打磨机构设置有两组电机组件，两组电机组件的输出端均设置有打磨轮，两组电机组件分别安装在固定架的左上部区域和固定板的左端，支持板的顶端设置有卡槽。

技术领域

本发明涉及半导体制冷片加工附属装置的技术领域，特别是涉及一种半导体制冷片生产用基板加工装置。

背景技术

众所周知，瓷片是半导体制冷片的重要组成部位，在对瓷片加工的时候，需要将瓷片打磨平整以提高半导体制冷片的质量，而半导体制冷片生产用基板加工装置是一种在对半导体制冷片生产加工的过程中，用于对瓷片进行打磨的装置，其在半导体制冷片生产的领域中得到了广泛的使用；现有的半导体制冷片生产用基板加工装置包括工作台和打磨机构，工作台的底端设置有四组支腿，打磨机构安装在工作台的顶部；现有的半导体制冷片生产用基板加工装置使用时，工作人员启动工作台顶部的打磨机构，然后工作人员将瓷片的待打磨面靠近打磨机构进行打磨，之后再将瓷片的另一面打磨完毕即可；现有的半导体制冷片生产用基板加工装置使用中发现，逐面对瓷片进行打磨，效率较低，同时由于人为因素的原因，很难使得瓷片的两打磨面具有较高的平行度，从而导致实用性较差。

发明内容

为解决上述技术问题，本发明提供一种可以同时对瓷片的两面进行打磨，因此可以提高瓷片加工效率，同时降低了使得瓷片的两打磨面具有较高的平行度的难度，从而增强实用性的半导体制冷片生产用基板加工装置。

本发明的一种半导体制冷片生产用基板加工装置，包括工作台和打磨机构，工作台的底端设置有四组支腿；还包括固定架、支持板、两组调节板、两组挤压板、两组气缸组件、两组支撑板、两组限位轴、两组挡环、抬动把手和固定板，固定架的左下部区域与工作台的顶端左侧连接，固定板的顶端与固定架的右上部区域底端连接，打磨机构设置有两组电机组件，两组电机组件的输出端均设置有打磨轮，两组电机组件分别安装在固定架的左上部区域和固定板的左端，两组打磨轮的内侧壁所在平面保持平行状态，右侧打磨轮位于左侧打磨轮的正右方，支持板的底端与工作台的顶端连接，支持板的顶端设置有卡槽，两组支撑板的内端分别与固定架的顶部区域左侧连接，两组限位轴的顶端分别与两组支撑板的底端连接，两组限位轴的底端均与工作台的顶端连接，两组调节板的顶端左侧均贯穿设置有限位滑孔，两组限位滑孔分别与两组限位轴滑动套装，抬动把手的左前部区域和左后部区域分别安装在两组调节板的底端，两组气缸组件分别安装在两组调节板的外端中部右侧，两组调节板的外端均贯穿设置有伸出孔，两组气缸组件的输出端分别滑动穿过两组伸出孔并且均伸入至两组调节板内侧，两组气缸组件的输出端分别与两组挤压板的外端连接，两组打磨轮关于卡槽对称分布，两组挤压板均位于卡槽中心部位的正上方，两组挡环分别与两组限位轴的中下部区域固定套装，两组挡环的顶端分别与两组调节板的底端紧贴，还包括两组控制板、两组调节螺纹杆、两组调节旋钮、两组伸缩轴、两组带动杆、同步轴、正螺纹环、反螺纹环、正螺纹杆、反螺纹杆、带动旋钮和两组夹板，两组控制板的内端均设置有控制槽，两组电机组件分别安装两组控制槽内，固定架的左端和固定板的右端均贯穿设置有调节螺纹孔，两组调节螺纹孔分别与两组调节螺纹杆螺装，两组调节螺纹杆的外端分别与两组调节旋钮的内端连接，固定架的左端顶部区域贯穿设置有两组左防护孔，固定板右端贯穿设置有两组右防护孔，左侧控制板的左端和右侧控制板的右端分别设置有两组左防护轴和两组右防护轴，两组左防护孔和两组右防护孔分别与两组左防护轴和两组右防护轴滑动套装，支持板的右端贯穿设置有同步孔，同步孔与同步轴轴承套装，正螺纹杆的右端和反螺纹杆的左端分别与同步轴的左端和右端连接，正螺纹环和反螺纹环分别与正螺纹杆和反螺纹杆螺装且正螺纹环和反螺纹环关于支持板对称分布，卡槽的左端和右端均贯穿设置有伸缩孔，两组伸缩孔分别与两组伸缩轴滑动套装，两组伸缩轴的内端分别与两组夹板的外端连接，两组伸缩轴的外端分别与两组带动杆的顶部区域内端连接，两组带动杆的底端分别与正螺纹环和反螺纹环的顶端连接，两组夹板均位于卡槽内且关于卡槽中心部位对称分布，带动旋钮的左端与反螺纹杆的右端连接。