[发明专利]一种设备及量子点膜的制备方法在审
申请号: | 202010787188.4 | 申请日: | 2020-08-07 |
公开(公告)号: | CN111983830A | 公开(公告)日: | 2020-11-24 |
发明(设计)人: | 陈黎暄 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13;G02F1/13357;B82Y30/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 汪阮磊 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 设备 量子 制备 方法 | ||
1.一种设备,用以制备量子点膜,其特征在于,包括:
一容器,用以装载量子点溶液;
升降装置,设于所述容器上方;
夹持装置,安装至所述升降装置上,且朝向所述容器的一侧;以及
控制器,连接至所述升降装置及所述夹持装置。
2.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,
所述夹持装置包括:
至少一对夹具;以及
至少一对吹气装置,分别连接至所述夹具。
3.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,还包括角度调节器,连接于所述夹具和所述升降装置之间;
当所述夹具夹持基板时,所述角度调节器能够调节基板的角度,使得所述基板与所述量子点溶液的水平面形成的夹角大于5°且小于90°。
4.根据权利要求1所述设备,其特征在于,
所述容器的材质为玻璃、陶瓷、金属中的一种。
5.一种量子点膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
提供一基板和如权利要求1所述的设备;
控制夹持装置夹持所述基板;
控制升降装置将所述基板未被夹持的部分浸泡于一量子点溶液中,其中,所述基板被所述量子点溶液浸泡的部分为有效区,所述基板未被所述量子点溶液浸泡的部分为无效区;
控制升降装置对所述基板进行匀速上拉处理,所述基板有效区的两侧表面形成未干燥的量子点膜;以及
将所述基板放置一载台上,并对其进行烘烤处理,所述基板有效区的两侧表面形成固化的量子点膜。
6.根据权利要求1所述的量子点膜的制备方法,其特征在于,
在所述基板夹持的步骤中,所述夹持装置具有至少一对夹具和至少一对吹气装置,至少一对吹气装置分别设于所述夹具相对设置的一面;其中,利用所述吹气装置在所述基板的两侧形成气压以夹持所述基板。
7.根据权利要求2所述的量子点膜的制备方法,其特征在于,所述无效区位于所述基板的一边侧,所述无效区与所述有效区具有一分界线;
在所述夹持所述基板的步骤中,
夹持所述基板时,所述夹具夹持于所述无效区。
8.根据权利要求3所述的量子点膜的制备方法,其特征在于,
所述无效区具有一宽度,该宽度小于50cm,在夹持时,所述夹具与所述分界线的距离大于50um。
9.根据权利要求1所述的量子点膜的制备方法,其特征在于,
在所述基板上拉的步骤中,
所述基板的均匀上拉速度为0.1um/s-10cm/s。
10.根据权利要求2所述的量子点膜的制备方法,其特征在于,
在所述基板浸泡步骤与所述基板上拉步骤之间,还包括:
控制角度调节器调节基板的角度,对所述基板进行倾斜处理;使得所述基板与所述量子点溶液的水平面形成的夹角大于5°且小于90°。
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