[发明专利]电子设备的均温散热装置在审

专利信息
申请号: 202010787207.3 申请日: 2020-08-07
公开(公告)号: CN111867338A 公开(公告)日: 2020-10-30
发明(设计)人: 陈前;巫跃凤;刘方宇;杨作兴 申请(专利权)人: 深圳比特微电子科技有限公司
主分类号: H05K7/20 分类号: H05K7/20;H01L23/467
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 郭同义;郑红娟
地址: 518057 广东省深圳市高*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电子设备 散热 装置
【权利要求书】:

1.一种电子设备的均温散热装置,其特征在于,所述均温散热装置包括:

壳体单元(10),所述壳体单元(10)具有沿第一方向相对设置的入风口(11)和出风口(12);

基板单元(20),设于所述壳体单元(10)内,所述基板单元(20)包括第一表面和第二表面,所述第一表面和所述第二表面自所述入风口(11)向所述出风口(12)方向延伸;

其中,所述基板单元(20)靠近所述入风口(11)的第一端与所述入风口(11)相距第一距离,以使所述基板单元(20)的第一端与所述入风口(11)之间形成第一均流区域(13)。

2.根据权利要求1所述的均温散热装置,其特征在于,所述入风口(11)布置有风扇单元(40),所述风扇单元(40)的吹风方向为自所述入风口(11)吹向所述出风口(12);

所述第一距离不小于数值(D0/2)/tanθ,其中,D0为所述风扇单元(40)的轮毂直径,θ为所述风扇单元的吹风方向相较所述第一方向的偏离角度。

3.根据权利要求2所述的均温散热装置,其特征在于,所述第一距离不大于数值D/tanθ,其中,D为风扇单元(40)的叶轮直径。

4.根据权利要求1所述的均温散热装置,其特征在于,所述均温散热装置还包括:

散热片单元(30),包括多个第一散热片(31)和多个第二散热片(32),所述多个第一散热片(31)沿垂直于所述第一方向的第二方向平行间隔的布置于所述第一表面,所述多个第二散热片(32)沿所述第二方向平行间隔的布置于所述第二表面;

其中,沿着所述第一方向,所述第一表面间隔布设有多个第一发热元件列(21),并且所述第一发热元件列(21)的散热面积沿所述第一方向递增。

5.根据权利要求4所述的均温散热装置,其特征在于,

沿着所述第一方向,相邻所述第一发热元件列(21)的间距保持不变,所述第二散热片(32)的散热面积递增,以使所述第一发热元件列(21)的散热面积沿着所述第一方向递增;或者,

沿着所述第一方向,所述第二散热片(32)的散热面积保持不变,相邻所述第一发热元件列(21)的间距递增,以使所述第一发热元件列(21)的散热面积沿着所述第一方向递增。

6.根据权利要求4所述的均温散热装置,其特征在于,所述基板单元(20)包括靠近所述入风口(11)的第一散热区(23)和靠近所述出风口(12)的第二散热区(24);

在所述第一散热区(23),相邻所述第一发热元件列(21)的间距保持不变,所述第二散热片(32)的散热面积沿所述第一方向递增;

在所述第二散热区(24),所述第二散热片(32)的散热面积保持不变,相邻所述第一发热元件列(21)的间距沿所述第一方向递增。

7.根据权利要求6所述的均温散热装置,其特征在于,

在所述第一散热区(23),相邻所述第一发热元件列(21)的间距以第一间距保持不变;

在所述第二散热区(24),沿着所述第一方向,相邻所述第一发热元件列(21)的间距自所述第一间距递增至第二间距,所述第二间距大于所述第一间距。

8.根据权利要求6所述的均温散热装置,其特征在于,

在所述第一散热区(23),所述第二散热片(32)的高度沿所述第一方向递增,以使所述第二散热片(32)的散热面积沿所述第一方向递增;

在所述第二散热区(24),所述第二散热片(32)的高度保持不变,以使所述第二散热片(32)的散热面积保持不变。

9.根据权利要求8所述的均温散热装置,其特征在于,

在所述第一散热区(23),所述第二散热片(32)的高度沿所述第一方向线性增大;或者,

在所述第一散热区(23),所述第二散热片(32)的高度沿所述第一方向阶梯增大。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳比特微电子科技有限公司,未经深圳比特微电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010787207.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top