[发明专利]传动装置在审
申请号: | 202010787515.6 | 申请日: | 2020-08-07 |
公开(公告)号: | CN114060526A | 公开(公告)日: | 2022-02-18 |
发明(设计)人: | 陈朝钟;林承贤;许建志 | 申请(专利权)人: | 勤友光电股份有限公司 |
主分类号: | F16J15/43 | 分类号: | F16J15/43 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 朱颖;刘芳 |
地址: | 中国台湾新北市三重区*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 传动 装置 | ||
本发明提供一种传动装置,包括基座、传动轴、磁流体模块、气体阻隔模块以及水冷式冷却系统。传动轴枢设于基座。磁流体模块套设于传动轴且设置于基座内。气体阻隔模块套设于传动轴且设置于基座内。水冷式冷却系统设置于基座。在基座界定真空侧以及相对真空侧的大气侧。磁流体模块位于真空侧及气体阻隔模块之间。气体阻隔模块位于大气侧及磁流体模块之间以阻隔来自于大气侧的气体往磁流体模块的方向移动。水冷式冷却系统用以将传动装置的热导出传动装置外。
技术领域
本发明涉及一种传动装置,且尤其涉及一种应用于高速旋转的真空镀膜设备的传动装置。
背景技术
在现有的高速旋转的真空镀膜设备的传动装置中,主要是利用磁流体模块作为阻隔真空与大气的主要屏障。磁流体模块是以设置有凹槽的导磁件搭配磁性件,并在凹槽处填充磁流液,使得磁流液能够形成阻隔真空与大气的屏障,藉此形成气密。
然而,现有的高速旋转的真空镀膜设备的实际工作温度常会超过磁流液所能承受的温度,致使磁流液的黏滞系数变高、流动性下降,磁流液中的基油容易挥发掉从而失去气体阻隔效果,造成高速旋转的真空镀膜设备所要求的真空条件恶化,并污染高速旋转的真空镀膜设备的相关产品与部件。当高速旋转的真空镀膜设备的实际工作温度过高,还会影响到磁流体模块的磁力强度。
此外,高速旋转的真空镀膜设备的一般保养或维修时常需反复从高真空环境与大气间互相频繁操作,高速旋转的真空镀膜设备单以磁流体模块作为大气气体进入真空侧的阻隔,在磁流体模块的构造及实用性上造成相当困扰,并因磁流体模块中的磁流液本身的换置需具备相当的专业工具与成本,如何延长磁流液的使用寿命,以及避免或降低及缓冲于反复高压差操作时所造成的磁流体漏液及真空密封效果降低,为本领域技术人员所亟待解决的课题。
发明内容
本发明是针对一种传动装置,能够解决现有的高速旋转的真空镀膜设备所要求的真空条件易恶化、相关产品与部件易被污染、磁流体模块的磁力易降低、保养或维修较为困扰、磁流液使用寿命较低以及真空密封效果较差等问题。
根据本发明的实施例,传动装置包括基座、传动轴、磁流体模块、气体阻隔模块以及水冷式冷却系统。传动轴枢设于基座。磁流体模块套设于传动轴且设置于基座内。气体阻隔模块套设于传动轴且设置于基座内。水冷式冷却系统设置于基座。在基座界定真空侧以及相对真空侧的大气侧。磁流体模块位于真空侧及气体阻隔模块之间。气体阻隔模块位于大气侧及磁流体模块之间以阻隔来自于大气侧的气体往磁流体模块的方向移动。水冷式冷却系统用以将传动装置的热导出传动装置外。
在根据本发明的实施例的传动装置中,上述的基座包括本体以及腔室。腔室设置于本体内。传动轴穿过腔室。磁流体模块及气体阻隔模块位于腔室内。水冷式冷却系统设置于本体。
在根据本发明的实施例的传动装置中,上述的腔室包括依序连接的第一空间、第二空间、第三空间以及第四空间。第一空间相对靠近真空侧。第四空间相对靠近大气侧。传动轴包括依序连接的第一轴部、第二轴部、第三轴部以及第四轴部。磁流体模块套设于第一轴部外。磁流体模块及第一轴部位于第一空间内。第二轴部位于第二空间内。气体阻隔模块套设于第三轴部外。气体阻隔模块及第三轴部位于第三空间内。第四轴部位于第四空间内。
在根据本发明的实施例的传动装置中,上述的传动轴还包括连接第一轴部的第一固定盖、连接第一固定盖的第五轴部以及连接第四轴部的第六轴部。第一固定盖位于第一轴部及第五轴部之间。基座还包括第一轴承、第二轴承、第二固定盖、第三固定盖以及锁固件。第一轴承套设于第二轴部。第一轴承及第二轴部位于第二空间内。第二轴承套设于第四轴部。第二轴承及第四轴部位于第四空间内。第二固定盖固定于本体。第二固定盖套设于第一轴部且抵靠于磁流体模块。第三固定盖套设于第六轴部且抵靠于第二轴承。
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