[发明专利]超宽谱吸波材料及其制备方法

权利要求书

1.一种超宽谱吸波材料，其特征在于，包括金属背板、相叠于所述金属背板上的多个吸波结构层以及多个介电层，且相邻的两个所述吸波结构层之间具有介电层；每一所述吸波结构层分别包括有多个呈周期性排布的吸波单元，每一所述吸波单元包括一个电阻膜结构，且多个所述吸波结构层的吸波单元的垂向投影相同；多个所述吸波结构层的电阻膜结构分别呈预设环状的几何形状设置，且相邻的两个所述吸波结构层的电阻膜结构的大小和/或几何形状不相同，并通过具有不同大小和/或几何形状的电阻膜结构吸收不同频谱的电磁波；

所述多个吸波结构层包括第一吸波结构层、第二吸波结构层、第三吸波结构层、第四吸波结构层和第五吸波结构层，所述第一吸波结构层上的电阻膜结构分别呈圆环形，所述第二吸波结构层上的电阻膜结构分别呈方环形，所述第三吸波结构层上的电阻膜结构分别呈环状的六边形，所述第四吸波结构层上的电阻膜结构分别呈方环形，所述第五吸波结构层上的电阻膜结构分别呈环状的椭圆形。

2.根据权利要求1所述的超宽谱吸波材料，其特征在于，每一所述吸波结构层均包括绝缘膜，且每一所述吸波结构层的多个电阻膜结构分别通过丝印工艺固定连接在所述绝缘膜上。

3.根据权利要求1所述的超宽谱吸波材料，其特征在于，所述第一吸波结构层、第二吸波结构层、第三吸波结构层、第四吸波结构层和第五吸波结构层依次相叠于所述金属背板上，且所述第一吸波结构层位于所述第五吸波结构层背向所述金属背板的一侧；

所述第二吸波结构层的电阻膜结构的尺寸大于或等于所述第一吸波结构层的电阻膜结构的尺寸；

所述第三吸波结构层上的电阻膜结构的尺寸大于或等于所述第二吸波结构层上的电阻膜结构的尺寸；所述第四吸波结构层上的电阻膜结构的尺寸大于所述第二吸波结构层上的电阻膜结构的尺寸；所述第五吸波结构层上的电阻膜结构的尺寸大于或等于所述第四吸波结构层上的电阻膜结构的尺寸。

4.根据权利要求3所述的超宽谱吸波材料，其特征在于，每一所述吸波结构层的方阻为50-1000Ω/□；

所述第二吸波结构层的方阻大于所述第一吸波结构层的方阻、小于所述第三吸波结构层的方阻，所述第四吸波结构层的方阻与所述第三吸波结构层的方阻相等、大于所述第五吸波结构层的方阻。

5.根据权利要求4所述的超宽谱吸波材料，其特征在于，所述第一吸波结构层背向所述第二吸波结构层的一侧设有一个所述介电层，以隔断所述第一吸波结构层与外部空气的接触，起到保护作用；所述第五吸波结构层和金属背板之间由一个所述介电层间隔分开；

所述第一吸波结构层上的电阻膜结构的方阻为326Ω/□，所述第二吸波结构层上的电阻膜结构的方阻为490Ω/□，所述第三吸波结构层上的电阻膜结构的方阻为600Ω/□，所述第四吸波结构层上的电阻膜结构的方阻为600Ω/□，所述第五吸波结构层上的电阻膜结构的方阻为62Ω/□。

6.根据权利要求5所述的超宽谱吸波材料，其特征在于，所述多个介电层的介电常数均为1.02-1.14，且相邻的两个所述吸波结构层之间的介电层的厚度分别为2.5mm；位于所述第一吸波结构层背向所述第二吸波结构层的一侧的介电层的厚度为2mm；位于所述第五吸波结构层和金属背板之间的介电层的厚度为2mm；所述超宽谱吸波材料的厚度小于20mm。

7.根据权利要求1所述的超宽谱吸波材料，其特征在于，所述金属背板、介电层和吸波结构层之间分别通过固定胶连接在一起。

8.一种如权利要求1-7中任一项所述的超宽谱吸波材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

a：在吸波结构层和介电层的表面添加低温固化胶；

b：将多个吸波结构层和多个介电层按预设排列顺序相叠排布，并通过抽真空装置抽真空后静置预设时间；

c：通过烘箱设备加温，完成超宽谱吸波材料的制备。