[发明专利]一种显示装置及其制备方法

权利要求书

1.一种显示装置，其特征在于，包括：

第一基板，包括第一上表面和第一下表面；

框胶，设于所述第一上表面，并与所述第一上表面围合形成一容置空间；

光源，位于所述容置空间内，并设于所述第一上表面上；

液晶层，设于所述容置空间内；所述液晶层包括液晶，所述液晶为聚合物分散液晶或聚合物网络液晶；

第二基板，包括第二上表面和第二下表面，所述第二下表面与所述第一上表面相对设置，且所述第二下表面与所述框胶粘合。

2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述光源包括：P电极、P型半导体层、有源层、N型半导体层和N电极，所述P电极一端与所述第一基板连接，所述P电极另一端与所述P型半导体层连接，所述有源层设于所述P型半导体层上方，所述N型半导体层设于所述有源层上方，所述N电极一端与所述第一基板连接，所述N电极另一端与所述N型半导体层连接。

3.根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于，所述N型半导体层为N型氮化镓层，所述P型半导体层为P型氮化镓层。

4.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述光源的厚度为5μm-10μm，所述光源的厚度方向与所述液晶层的厚度方向一致；所述光源的长度为50μm-500μm，所述光源的长度方向与所述液晶层的厚度方向垂直。

5.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述光源的出光角度为120°-180°。

6.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述第一基板的光透过率小于所述第二基板的光透过率。

7.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置还包括第一反射层，所述第一反射层设于所述第一基板的第一上表面，所述光源设于所述第一反射层背离所述第一基板的一侧。

8.根据权利要求7所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置还包括第二反射层，所述第二反射层设于所述光源背离所述第一基板的一侧。

9.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，所述第一反射层和所述第二反射层为金属反射层、分布式布拉格反射层和增强型镜面反射膜中的任意一种。

10.一种显示装置的制备方法，其特征在于，包括：

提供第一基板，所述第一基板包括第一上表面和第一下表面；

在所述第一上表面制备光源；

在所述第一上表面上涂布框胶，所述框胶和所述第一上表面围合形成一容置空间，所述光源位于所述容置空间内；

向所述容置空间内灌入液晶，形成液晶层，其中，液晶为聚合物分散液晶或聚合物网络液晶；

提供第二基板，所述第二基板包括第二上表面和第二下表面，所述第二下表面与所述第一上表面相对设置；

将所述第二下表面与所述框胶粘合，以形成显示装置。