[发明专利]一种控制谐波远近的谐振结构及介质滤波器在审
申请号: | 202010792915.6 | 申请日: | 2020-08-07 |
公开(公告)号: | CN111816971A | 公开(公告)日: | 2020-10-23 |
发明(设计)人: | 孟庆南 | 申请(专利权)人: | 物广系统有限公司;厚元电子技术有限公司;悟元信息系统科技术有限公司 |
主分类号: | H01P7/10 | 分类号: | H01P7/10;H01P1/20 |
代理公司: | 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 | 代理人: | 黄行军 |
地址: | 中国香港湾仔区湾仔骆克*** | 国省代码: | 香港;81 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 控制 谐波 远近 谐振 结构 介质 滤波器 | ||
1.一种控制谐波远近的介质谐振结构,包括空腔、支撑架、介质谐振器和盖板;所述空腔为密封的空间构成,其中空腔的一个面为盖板面;所述介质谐振器由介质构成;所述介质谐振器安装在空腔中,不与空腔内壁接触;所述支撑架安装在介质谐振器和空腔的内壁之间的任意位置并且匹配介质谐振器和空腔任意形状并连接固定支撑该介质谐振器,其特征在于:
所述空腔内设置一个单一轴向的圆柱体或多边体的介质谐振器及其固定的支撑架与空腔形成一个多模介质谐振结构;或
所述空腔内设置二个垂直交叉的圆柱体或多边体单一轴向介质谐振器及其固定的支撑架与空腔形成一个多模介质谐振结构,其中X轴向的圆柱体或多边体的介质谐振器的X轴向尺寸大于等于Y轴的圆柱体或多边体的介质谐振器垂直方向且与X轴向平行的尺寸;其中Y轴的圆柱体或多边体的介质谐振器Y轴尺寸大于等于X轴的圆柱体或多边体的介质谐振器的垂直方向且与Y轴向平行的尺寸;或
所述空腔内设置三个相互垂直交叉的圆柱体或多边体单一轴向介质谐振器及其固定的支撑架与空腔形成一个多模介质谐振结构,其中X轴向的圆柱体或多边体介质谐振器的X轴向尺寸大于等于Y轴的圆柱体或多边体的介质谐振器和Z轴向圆柱体或多边体介质谐振器的垂直方向且与X轴向平行的尺寸;其中Y轴向的圆柱体或多边体的介质谐振器的Y轴向尺寸大于等于X轴的圆柱体或多边体的介质谐振器和Z轴向圆柱体或多边体介质谐振器的垂直方向且与Y轴向平行的尺寸;其中Z轴向的圆柱体或多边体的介质谐振器的Z轴向尺寸大于等于X轴的圆柱体或多边体的介质谐振器和Y轴向圆柱体或多边体介质谐振器的垂直方向且与Z轴向平行的尺寸,
其中所述介质谐振器的局部设置有盲槽、通槽、盲孔、通孔或在其表面设置凸起;或在其轴向对称开槽、开孔或凸起;或在其任意面、棱边、角处开槽或孔;或在其表面设置凸起,所述介质谐振器局部开盲槽、通槽、盲孔、通孔或表面设置凸起改变其基模与高次模或高次模与更高次模之间的频率间隔。
2.根据权利要求1所述的控制谐波远近的介质谐振结构,其特征在于:所述介质谐振结构为单一轴向介质谐振器、重直交叉单一轴向介质谐振器或者三个相互垂直交叉的单一轴向介质谐振器,所述介质谐振器的角、棱边、表面或内部开槽或孔,在其不同角、棱边及面对称设置多个槽或孔;或在其同一面设置多个槽或孔;或在其内部开槽或孔;或在其不同轴向进行对称开槽或孔。
3.根据权利要求2所述的控制谐波远近的介质谐振结构,其特征在于:该等槽或孔设置成盲槽、盲孔或通槽、通孔,在保持基模频率不变的情况下,设置槽及孔后该介质谐振器的尺寸变化,改变其基模与高次模或高次模与更高次模之间的频率间隔。
4.根据权利要求2所述的控制谐波远近的介质谐振结构,其特征在于:所述介质谐振器的表面的任一面的任何位置设置有凸起,该凸起为长方体、圆柱体或不规则形状,在保持基模频率不变的情况下,设置凸起后该介质谐振器的尺寸变化,改变其基模与高次模或高次模与更高次模之间的频率间隔。
5.根据权利要求1所述的控制谐波远近的介质谐振结构,其特征在于:所述介质谐振结构为单一轴向介质谐振器、重直交叉单一轴向介质谐振器或者三个相互垂直交叉的单一轴向介质谐振器时,其介质谐振器水平及垂直方向尺寸切边、开槽、切角,其空腔内壁尺寸与三个轴向对应的介质谐振器尺寸变化或者水平、垂直方向的尺寸变化,改变其基模及多个高次模频率及对应的多模数量及Q值,
所述介质谐振结构为垂直交叉单一轴向介质谐振器或者三个相互垂直交叉的单一轴向介质谐振器时,其中任意一个轴向的圆柱体或多边体的介质谐振器小于另外一个或者二个轴向的圆柱体或多边体的介质谐振器垂直方向且与轴向平行的尺寸时,与其对应的基模及多个高次模的频率及对应的多模数量及Q值都会发生相应变化,
在保持基模频率不变时,不同介电常数的介质谐振器与空腔、支撑架组成的控制谐波远近的介质谐振结构,基模及多个高次模频率对应的多模及Q值大小会发生变化,不同介电常数的介质谐振器Q值变化不同,同时高次模的频率也会发生变化。
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