[发明专利]一种海水脱盐盐粒回炉重造加工装置及其实施方法在审
申请号: | 202010795504.2 | 申请日: | 2020-08-10 |
公开(公告)号: | CN111957257A | 公开(公告)日: | 2020-11-20 |
发明(设计)人: | 张高惠;夏皖萱;鲍加胜;许自发 | 申请(专利权)人: | 马鞍山市新桥工业设计有限公司 |
主分类号: | B01F13/10 | 分类号: | B01F13/10;B01F15/02;B02C19/20;B01F1/00;B01F7/16 |
代理公司: | 北京和联顺知识产权代理有限公司 11621 | 代理人: | 冯海玉 |
地址: | 243000 安徽省马鞍山*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 海水 脱盐 盐粒 回炉 加工 装置 及其 实施 方法 | ||
本发明公开了一种海水脱盐盐粒回炉重造加工装置及其实施方法,包括化盐釜,所述化盐釜内部的上端固定连接有导流板,导流板下方的化盐釜内固定连接有第一研磨底板和第二研磨底板,化盐釜的下端固定连接有进液装置,化盐釜的上表面固定连接有驱动电机,驱动电机的输出端贯穿化盐釜,并连接有研磨轴。本海水脱盐盐粒回炉重造加工装置及其实施方法,在化盐釜内设置有第一研磨底板和第二研磨底板,第一研磨底板和第二研磨底板分别配合第一研磨块和第二研磨块,对海盐颗粒进行研磨,两道研磨工序,提高研磨效果,同时最细小的海盐颗粒下沉至化盐釜的最下端,最先与化盐液接触是,最容易被溶化。
技术领域
本发明涉及化工设备技术领域,特别涉及一种海水脱盐盐粒回炉重造加工装置及其实施方法。
背景技术
在氨碱法制碱领域中,大多是以固体盐为原料化成饱和粗盐水,再除去钙、镁等杂质后,供制碱使用。但是,由于粗海盐的杂质较多,用现有的化盐桶化粗海盐时,会存在如下弊端:1、由于大颗粒的粗盐的间隙远远大于小粒度的细盐的间隙,从而使得两者的堆积密度不同,从而导致高浓度卤水在粗盐间隙间的流速与在细盐间隙间的流速不一样,容易发生偏流现象,从而导致两者的盐层堆积情况和盐层距出水栅栏的距离明显不同,最终导致卤水在盐层的停留时间分布不均,溢流的饱和粗盐水浓度有所波动。2、上盐到一定高度时,部分粗盐与杂质会被平推至后续工序中。盐颗粒进入粗盐水高压泵泵壳后,在运行过程中对泵壳的冲刷十分严重,导致泵壳出现孔洞。其它杂质会堵塞叶轮,影响机泵正常运行,从而需频繁消漏检修。泄漏的部分盐颗粒沉淀在管道中,在管壁和底部沉积结晶,导致盐水流通不畅,流量不能达到生产所需用量。
中国专利CN209771853U公开了一种化海盐装置,其包括桶体,所述桶体的上端设有桶口、下端侧部设有人孔,所述桶体的底部上方设有卤水总管,所述卤水总管的两侧设有水平延伸的分布管,所述分布管的底部设有使流体均匀喷射的筛孔,所述桶体的底部设有位于所述分布管下方的凹型槽,所述桶体的内部还设有位于所述卤水总管侧上方的折流圈,所述折流圈与所述桶体的内壁活页连接。该实用新型的化海盐装置容易清扫,不易发生分布管堵塞的现象,防腐性能好,使用寿命长,且能有效防止粗盐和杂质损伤机泵和堵塞管道,保证低硝卤化粗海盐能连续稳定运行,降低了化盐制碱的生产成本。
该申请虽然在一定程度上解决了背景技术中的问题,但是该申请中并没有对不同直径的盐粒进行处理,在化盐水的过程中,不同直径的盐粒,不能同时化开,虽然采用卤水总管、分布管避免偏流现象,但没有从根本上解决产生偏流现象的根本原因。
发明内容
本发明的目的在于提供一种海水脱盐盐粒回炉重造加工装置及其实施方法,在化盐釜内设置有第一研磨底板和第二研磨底板,第一研磨底板和第二研磨底板分别配合第一研磨块和第二研磨块,对海盐颗粒进行研磨,两道研磨工序,提高研磨效果,同时最细小的海盐颗粒下沉至化盐釜的最下端,最先与化盐液接触是,最容易被溶化,另外在化盐釜的下端设置进液装置,进液装置上端的一周等距离的开设有出液孔,分别以发散式向化盐釜中注化盐液,使同一截面上的流体冲力保持平衡,从而提高了化盐的均匀性,而且还增加导流板,在导流板内设置汇集孔和花型块,进一步提高盐水混合度,提高盐水浓度的均匀性,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种海水脱盐盐粒回炉重造加工装置,包括化盐釜,所述化盐釜内部的上端固定连接有导流板,导流板下方的化盐釜内固定连接有第一研磨底板和第二研磨底板,化盐釜的下端固定连接有进液装置,化盐釜的上表面固定连接有驱动电机,驱动电机的输出端贯穿化盐釜,并连接有研磨轴,研磨轴的上端贯穿有导料筒,研磨轴置于导料筒内部的外壁上连接有分割刀,研磨轴贯穿导流板和第一研磨底板,并连接有第一研磨块和第二研磨块,化盐釜的侧壁上固定连接有出液口。
优选的,所述导料筒的一侧固定连接有进料筒,进料筒的一端贯穿化盐釜,并连接有进料漏斗。
优选的,所述第一研磨块上下表面均为凸出的锥面结构,第一研磨块的下表面与第一研磨底板的上表面相匹配。
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