[发明专利]制备X射线屏蔽层的方法和相关X射线设备在审
| 申请号： | 202010798822.4 | 申请日： | 2020-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN114073539A | 公开（公告）日： | 2022-02-22 |
| 发明（设计）人： | H-J·米勒;郑靖明;滕长青 | 申请（专利权）人： | 上海西门子医疗器械有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/10 | 分类号： | A61B6/10 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201318 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 制备 射线 屏蔽 方法 相关 设备 | ||
【权利要求书】：
1.一种制备X射线屏蔽层的方法，包括：
以高分子助剂对金属粉末进行表面处理；
加入树脂并搅拌均匀；
加入助剂并搅拌均匀。
2.如权利要求1所述的方法，其特征是，所述金属选自铅、钨、铋中的一种或复数种。
3.如权利要求1所述的方法，其特征是，所述树脂是丙烯酸树脂。
4.一种X射线设备，包括壳体，所述壳体的表面的至少一部分附着根据如权利要求1至3中任一项所述的方法制备的X射线屏蔽层。
5.如权利要求4所述的X射线设备，其特征是，所述X射线设备是X光机、C形臂或CT机。
6.如权利要求4所述的X射线设备，其特征是，所述X射线屏蔽层涂敷、喷涂、粘合于所述壳体的表面的至少一部分。
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