[发明专利]一种基于X射线多层膜波带片的修正方法及系统

权利要求书

1.一种基于X射线多层膜波带片的修正方法，其特征在于，包括：

在多层膜波带片的上端和下端各镀制N层周期膜；N为大于2的正整数；

对镀制的N层周期膜进行掠入射X射线反射测试，确定两端镀制的N层周期膜的周期厚度，为第一上端厚度和第一下端厚度；

利用电子显微镜对所述多层膜波带片以及两端镀制的N层周期膜进行拍摄，获得拍摄图像；

读取所述拍摄图像中每层膜波带片的厚度以及两端镀制的N层周期膜的厚度；读取的两端镀制的N层周期膜的厚度包括第二上端厚度和第二下端厚度；

根据所述第一上端厚度、所述第一下端厚度、所述第二上端厚度和所述第二下端厚度对所述拍摄图像中每层膜波带片的厚度进行修正，具体为：

根据所述第一上端厚度、所述第一下端厚度、所述第二上端厚度和所述第二下端厚度确定比例函数；

采用以下公式，根据所述比例函数对所述拍摄图像中每层膜波带片的厚度进行修正：

其中y为修正后的每层膜波带片的厚度，ΔD₁＝D₁-D′₁，ΔD₂＝D₂-D′₂，D₁为第一上端厚度，D₂为第一下端厚度，D′₁为第二上端厚度，D′₂为第二下端厚度，n为多层膜波带片的总膜层数，x为所述拍摄图像中每层膜波带片的厚度。

2.根据权利要求1所述的修正方法，其特征在于，所述X射线反射测试中的X射线光源为Cu-Kα线，波长为0.154nm，测试模式为θ-2θ联动扫描模式。

3.根据权利要求1所述的修正方法，其特征在于，所述确定两端镀制的N层周期膜的周期厚度，具体为：根据布拉格公式确定两端镀制的N层周期膜的周期厚度。

4.根据权利要求3所述的修正方法，其特征在于，所述布拉格公式如下：

其中D为待测端的N层周期膜的周期厚度，θ_r为第r次布拉格峰对应的掠入射角，q为衍射级次，λ为X射线的波长，δ为多层膜的平均折射小量。

5.一种基于X射线多层膜波带片的修正系统，其特征在于，包括：

镀制模块，用于在多层膜波带片的上端和下端各镀制N层周期膜；N为大于2的正整数；

X射线反射测试模块，用于对镀制的N层周期膜进行掠入射X射线反射测试，确定两端镀制的N层周期膜的周期厚度，为第一上端厚度和第一下端厚度；

拍摄模块，用于利用电子显微镜对所述多层膜波带片以及两端镀制的N层周期膜进行拍摄，获得拍摄图像；

厚度读取模块，用于读取所述拍摄图像中每层膜波带片的厚度以及两端镀制的N层周期膜的厚度；读取的两端镀制的N层周期膜的厚度包括第二上端厚度和第二下端厚度；

修正模块，用于根据所述第一上端厚度、所述第一下端厚度、所述第二上端厚度和所述第二下端厚度对所述拍摄图像中每层膜波带片的厚度进行修正，具体为：

根据所述第一上端厚度、所述第一下端厚度、所述第二上端厚度和所述第二下端厚度确定比例函数；

采用以下公式，根据所述比例函数对所述拍摄图像中每层膜波带片的厚度进行修正：

其中y为修正后的每层膜波带片的厚度，ΔD₁＝D₁-D′₁，ΔD₂＝D₂-D′₂，D₁为第一上端厚度，D₂为第一下端厚度，D′₁为第二上端厚度，D′₂为第二下端厚度，n为多层膜波带片的总膜层数，x为所述拍摄图像中每层膜波带片的厚度。