[发明专利]大模场三包层光纤、其制备方法及光纤激光器

权利要求书

1.一种大模场三包层光纤，其特征在于，包括：纤芯、包覆在所述纤芯外的第一包层以及包覆在所述第一包层外的第二包层；

所述纤芯为掺杂共掺物后烧结的多孔玻璃，所述共掺物为氯化铝、磷酸二氢铵、硝酸铈中的至少一种与镱离子的混合物；

所述第一包层为掺杂有氧化锗、六氟硅酸铵中的至少一种后烧结的多孔玻璃；

所述第二包层为重掺杂六氟硅酸铵后烧结的多孔玻璃。

2.根据权利要求1所述的大模场三包层光纤，其特征在于，所述第一包层的折射率为所述纤芯的折射率的90％-95％。

3.根据权利要求2所述的大模场三包层光纤，其特征在于，所述第二包层的折射率低于所述纤芯的折射率。

4.根据权利要求3所述的大模场三包层光纤，其特征在于，所述第二包层的折射率为所述纤芯的折射率的5％-15％。

5.根据权利要求4所述的大模场三包层光纤，其特征在于，所述第二包层中六氟硅酸铵的掺杂浓度大于0.2％。

6.根据权利要求5所述的大模场三包层光纤，其特征在于，所述共掺物为氯化铝、磷酸二氢铵、硝酸铈与氯化镱的混合物。

7.根据权利要求6所述的大模场三包层光纤，其特征在于，所述纤芯中，镱离子的掺杂浓度为20000-28000ppm，铝离子的掺杂浓度为8000-10000ppm，磷离子的掺杂浓度为5000-10000ppm，铈离子的掺杂浓度为3000-5000ppm。

8.根据权利要求5所述的大模场三包层光纤，其特征在于，所述共掺物为氯化铝、磷酸二氢铵、硝酸铈、六氟硅酸铵与氯化镱的混合物，且其中氟离子的掺杂浓度为2000-5000ppm。

9.根据权利要求1-8中任意一项所述的大模场三包层光纤，其特征在于，所述大模场三包层光纤的制备方法包括以下步骤：

1)制备掺杂共掺物后烧结的多孔玻璃芯棒作为所述纤芯；

2)制备掺杂有氧化锗和/或六氟硅酸铵后烧结的多孔玻璃套管作为所述第一包层；

3)制备重掺杂六氟硅酸铵后烧结的多孔玻璃套管作为所述第二包层；

4)采用套管法进行高温熔融拉制即可得到所述大模场三包层光纤。

10.一种采用如权利要求1-8中任意一项所述的大模场三包层光纤作为输出光纤的光纤激光器。