[发明专利]光刻胶组合物、用它形成光刻图案的方法及其用途

权利要求书

1.一种光刻胶组合物，其特征在于，包括：

金属氧化物纳米簇，所述金属氧化物纳米簇包括金属氧化物内核和与所述金属氧化物内核配位的有机配体，其分子通式为M_xO_y(OH)_mL_n，M为金属元素，L为所述有机配体，且为含有双键的有机基团，4≤x≤8，2≤y≤8，0≤m≤4，12≤n≤16；

光产酸剂；自由基淬灭剂；以及溶剂；

其中，所述光刻胶组合物中，所述金属氧化物纳米簇的重量百分比为5％～15％，所述光产酸剂的重量百分比为0.5％～1.5％，所述自由基淬灭剂的重量百分比为0.03％～0.6％。

2.根据权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于，M选自锆、钛和铪中的任意一种。

3.根据权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于，L选自丙烯酸配位基或甲基丙烯酸配位基。

4.根据权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述金属氧化物纳米簇为Hf₄O₂(MAA)₁₂、Zr₄O₂(MAA)₁₂、Ti₈O₈(MAA)₁₆、Zr₆O₄(OH)₄(MAA)₁₂、Hf₄O₂(AA)₁₂、Zr₄O₂(AA)₁₂、Ti₈O₈(AA)₁₆、Zr₆O₄(OH)₄(AA)₁₂以及它们的二聚体或多聚体中的一种或多种。

5.根据权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述光产酸剂包括鎓盐、硝基苄基化合物、重氮化合物、N-羟基酰亚胺磺酸酯以及卤代三嗪中的一种或多种。

6.根据权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述自由基淬灭剂包括哌啶衍生物类自由基淬灭剂、酚类自由基淬灭剂以及醌类自由基淬灭剂中的一种或多种。

7.根据权利要求6所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述哌啶衍生物类自由基淬灭剂包括2,2,6,6-四甲基-1-哌啶氧化物、2,2,6,6-四甲基哌啶醇、1,2,2,6,6-五甲基哌啶醇、3-(2,2,6,6-四甲基哌啶-4-氨基)丙酸十二酯、4-苯甲酸基-2,2,6,6-四甲基哌啶和双(1,2,2,6,6-五甲基哌啶基)癸二醇酯中的一种或多种。

8.根据权利要求6所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述酚类自由基淬灭剂包括对苯二酚、2-甲基对苯二酚、2-甲氧基对苯二酚、对叔丁基邻苯二酚中的一种或多种。

9.根据权利要求6所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述醌类自由基淬灭剂包括l,4-苯醌、四羟基-1,4-苯醌、l,4-萘醌中的一种或多种。

10.根据权利要求1～9任一项所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述溶剂为乳酸乙酯、乙酸丁酯、丙二醇甲醚醋酸酯、甲醇、乙醇和丙醇中的一种或多种。

11.根据权利要求1～9任一项所述的光刻胶组合物，其特征在于，所述金属氧化物纳米簇的粒径为1nm～10nm。