[发明专利]一种铜合金表面高能微弧沉积层制备与激光后处理强化工艺

权利要求书

1.一种铜合金表面高能微弧沉积层制备与激光后处理强化工艺，其特征在于，包括如下步骤：

S1：首先将待加工工件表面打磨光滑；

S2：采用高能电弧熔丝沉积成型工艺在待加工工件表面形成铜合金沉积层；

S3：将所述铜合金沉积层进行磨平处理；

S4：采用激光器对磨平后的铜合金沉积层进行激光重熔，消除内部缺陷，得到重熔沉积层；

在所述步骤S2中高能电弧熔丝沉积成型工艺中采用的高能微弧电源参数为：功率2600～3800W、占空比0.65-0.95、频率1.0～2.5Hz；

在所述步骤S2中形成的合金沉积层厚度为2～3mm；

在所述步骤S4中激光器参数为：功率500～4000W，扫描速度5～30mm/s，光斑直径3mm，氩气流量5～20L/min。