[发明专利]一种微纳米纹理无缝拼接的纹理模具的制备工艺

权利要求书

1.一种微纳米纹理无缝拼接的纹理模具的制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：

S1、将感光材料涂覆于基板上，并通过预烤、曝光、显影 ，制得纹理模具及玻璃靶标模具C；

S2、将纹理模具C上的纹理进行转印，在其纹理面施加UV胶水，在UV胶水上覆盖PET膜片，并通过压印、UV预固化后，将纹理模具C与PET膜片分离，使纹理转印至PET膜片上，制得纹理膜片A；

S3、将涂布有感光材料的PET基材置于光绘机中，根据所需图案对PET基材表面的感光涂层进行扫描，然后将已光刻的PET基材经过显影、定影、清洗以及干燥处理后，制得具有纹理外形的菲林片B；

S4、将纹理膜片A和菲林片B贴合，制得菲林母模D；

S5、将玻璃靶标模具C固定于UV转印机台作业平台上，将PC板置于作业面置于玻璃靶标模具C上面，将靶标纹理转印至PC板上，制得PC纹理靶标E；

S6、根据PC纹理靶标E的标靶位置将除第一模外的其它多模位置贴上保护膜，并将贴合保护膜的PC纹理靶标E置于机台作业平台上，将机台上平台的菲林母模D的纹理转印到PC纹理靶标E的第一模的位置；

S7、PC纹理靶标E的已转印有纹理的第一模位置贴覆保护膜，并将未覆盖区域的胶水清楚，撕掉第二模的保护膜；

S8、操作机台使上平台的菲林母模D的纹理转印到PC纹理靶标E上的第二模位置；

S9、重复步骤S7-S8，直到所有的排板完成，制得PC纹理模具E1。

2.根据权利要求1所述的一种微纳米纹理无缝拼接的纹理模具的制备工艺，其特征在于，步骤S1将感光材料涂覆于基板上，并通过预烤、曝光、显影 ，制得纹理模具及玻璃靶标模具C，包括：通过涂布工艺将感光性树脂光阻覆盖在基板上，并进行预烤100-300s，预烤温度为100-150℃，然后通过曝光显影将微纳米级纹理制作在基板上，0mW曝光能量≤200mW，UV灯波长为365-425nm，显影液采用TMAH溶液，显影液电导率为10-60us/cm、温度为23±2℃，显影时间为20-240s，并经纯水洗、吹干、烘烤固化，烘烤时间为1-2h，烘烤温度为100-150℃，制得纹理模具及玻璃靶标模具C。

3.根据权利要求1所述的一种微纳米纹理无缝拼接的纹理模具的制备工艺，其特征在于：S2中UV转印的滚轮压力0.2-0.6MPa、走速为0.1-2mm/sec、固化能量为400-800mJ/cm²。

4.根据权利要求3所述的一种微纳米纹理无缝拼接的纹理模具的制备工艺，其特征在于：步骤S2之后还包括UV固化机对S2中的纹理膜片A进行老化处理，设置能量500-550mJ/cm2，走速2-2.5m/min，重复次数8-10次；以及将已老化为纹理膜片A进行边镭切处理，长宽较纹理边缘单边外扩20-50mm，镭切功率为50w，镭切速度25mm/s。

5.根据权利要求1所述的一种微纳米纹理无缝拼接的纹理模具的制备工艺，其特征在于：步骤中S4将纹理膜片A和菲林片B贴合，制得菲林母模D，包括：将纹理膜片A和菲林片B分别固定在贴合机台工位上，分别进行精度CCD抓靶，按下翻转平台真空按钮，启动贴合作业，滚轮压力0.3Mpa，滚轮速度5m/min，组合半成品菲林母模，再置于脱泡机进行脱泡，压力6KG，温度＜40℃，脱泡时间1200s，制作成成品菲林母模D。

6.根据权利要求1所述的一种微纳米纹理无缝拼接的纹理模具的制备工艺，其特征在于：步骤S5将玻璃靶标模具C固定于UV转印机台作业平台上，将PC板置于作业面置于玻璃靶标模具C上面，将靶标纹理转印至PC板上，制得PC纹理靶标E，包括：将玻璃靶标模具C固定于UV转印机台作业平台上，调整机台作业参数，滚轮速度1mm/s，滚轮压力0.4Mpa，UV曝光能量600-800mj/cm²；用塑胶吸管吸取适量UV胶水，在玻璃靶标模具C首端距离边缘2cm处，将胶水挤出成一条与玻璃靶标模具C外形平行的直线，将PC板保护膜撕除，作业面置于玻璃靶标模具C上面，且四边平齐，操作机台将靶标纹理转印至PC板上，制得PC纹理靶标E。