[发明专利]一种耐铬假单胞菌及其在高浓度铬污染黑臭水体治理中的应用有效
| 申请号： | 202010822586.5 | 申请日： | 2020-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN112158961B | 公开（公告）日： | 2021-08-20 |
| 发明（设计）人： | 汪婧婷;李然;冯镜洁;张方博;唐磊;毛英翥;叶茂 | 申请（专利权）人： | 四川大学 |
| 主分类号： | C12N1/20 | 分类号： | C12N1/20;C02F101/22 |
| 代理公司： | 成都虹盛汇泉专利代理有限公司 51268 | 代理人： | 周敏 |
| 地址： | 610065 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 耐铬假单胞菌 及其 浓度 污染 水体 治理 中的 应用 | ||
1.一种耐铬假单胞菌(
2.权利要求1所述假单胞菌在治理高浓度铬污染黑臭水体中的应用。
3.根据权利要求2所述应用，其特征在于，将所述耐铬假单胞菌培养为SCU20降解菌剂投放到铬污染黑臭水体中，菌液的投放量为黑臭水体质量的3％～10％。
4.根据权利要求3所述应用，其特征在于，所述SCU20降解菌剂通过以下方法制备：将SCU20菌种接种于铬浓度大于等于待处理黑臭水体铬浓度的含铬分离纯化液体培养基中，放在26℃恒温培养箱中培养，24h后取样测样，菌液的浓度大于等于1.0×109cfu/mL时停止发酵，取所得发酵产物1‰～1％体积接种于相同的分离纯化液体培养基中于26～35℃，120～150rpm条件下振荡培养12～24h，得到SCU20降解菌剂。
5.根据权利要求4所述应用，其特征在于，所述含铬分离纯化液体培养基的组分及配比为：NaCl 1g/L；NaHCO3 1g/L；K2HPO4 0.2g/L；NH3Cl 1g/L；CH3COONa 3g/L；MgSO4·7H2O0.2g/L；酵母膏0.1g/L；去离子水1L；将前述组分混合均匀后在121℃高温高压灭菌20min后，用重金属过滤灭菌法加入重铬酸钾溶液使培养基中铬浓度大于等于待处理黑臭水体铬浓度。
6.一种耐铬高浓度铬的黑臭水体降解菌剂，其特征在于，包含权利要求1所述耐铬假单胞菌。
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