[发明专利]一种钕铁硼永磁体上料装置及上料方法

权利要求书

1.一种钕铁硼永磁体上料装置，其特征在于，该装置包括振动盘上料机构（11）和上料错开机构（12）；振动盘上料机构（11）和上料错开机构（12）都固定在工作台上；振动盘上料机构（11）出料口与上料错开机构（12）进料端相连接；上料错开机构（12）出料端与分料搬移装置输出端相衔接；振动盘上料机构（11）用于将钕铁硼永磁体振动上料至上料错开机构（12）中；上料错开机构（12）用于控制钕铁硼永磁体的搬移时机；

上料错开机构（12）包括上料收集盘（13）、上料错开机架（14）、错开推动气缸（15）和错开推动板（16）；上料收集盘（13）进料口与振动盘上料机构（11）出料口相连接；上料收集盘（13）包括收集盘凹槽，多个收集盘凹槽分别与钕铁硼永磁体相配合；上料错开机架（14）固定在工作台上，错开推动气缸（15）固定在上料错开机架（14）上，并且错开推动气缸（15）输出端与错开推动板（16）相连接；错开推动板（16）位于上料收集盘（13）上方；错开推动板（16）包括推动板滑槽（17）和推动板挡条（18）；推动板滑槽（17）和推动板挡条（18）在错开推动板（16）上间隔分布；推动板滑槽（17）穿过错开推动板（16），多个推动板滑槽（17）与多个收集盘凹槽相对齐，并且推动板滑槽（17）宽度大于收集盘凹槽宽度；上料收集盘（13）用于接收钕铁硼永磁体；错开推动气缸（15）用于驱动错开推动板（16）运动。

2.根据权利要求1所述一种钕铁硼永磁体上料装置，其特征在于，错开推动板（16）下表面与上料收集盘（13）上表面相贴合。

3.根据权利要求1所述一种钕铁硼永磁体上料装置，其特征在于，推动板挡条（18）为掏空结构。

4.根据权利要求1所述一种钕铁硼永磁体上料装置，其特征在于，上料错开机构（12）还包括推动板限位块（121）；多个推动板限位块（121）分别固定在上料收集盘（13）前后两端，并且多个推动板限位块（121）分别与错开推动板（16）相连接。

5.根据权利要求4所述一种钕铁硼永磁体上料装置，其特征在于，推动板限位块（121）包括推动板限位块主体（122）和推动板限位块凹槽（123）；多个推动板限位块凹槽（123）分别位于推动板限位块主体（122）左右两端，并且推动板限位块凹槽（123）与错开推动板（16）相配合。

6.根据权利要求4所述一种钕铁硼永磁体上料装置，其特征在于，所述推动板限位块凹槽（123）为长方形凹槽。

7.根据权利要求1所述一种钕铁硼永磁体上料装置，其特征在于，错开推动板（16）还包括第一涨紧螺钉（161）、第二涨紧螺钉（162）和多个涨紧弹簧（163）；第一涨紧螺钉（161）和第二涨紧螺钉（162）分别固定在错开推动板（16）和推动板限位块（121）上；部分涨紧弹簧（163）两端分别与第一涨紧螺钉（161）和第二涨紧螺钉（162）相连接，另一部分涨紧弹簧（163）两端分别与错开推动板（16）和第二涨紧螺钉（162）相连接。

8.根据权利要求1所述一种钕铁硼永磁体上料装置，其特征在于，上料错开机构（12）还包括上料传感器（124）；多个上料传感器（124）都固定在上料收集盘（13）下方，并且多个上料传感器（124）分别与上料收集盘（13）进料口和上料收集盘（13）进料终点相衔接。

9.一种钕铁硼永磁体上料方法，其特征在于，该方法采用权利要求1所述一种钕铁硼永磁体上料装置，该方法包括以下的步骤：

1）振动盘上料机构（11）将多个钕铁硼永磁体振动上料至上料收集盘（13）中的收集盘凹槽中；此时错开推动板（16）中的推动板挡条（18）和收集盘凹槽相对齐；

2）分料搬移装置运动到上料收集盘（13）上方，错开推动气缸（15）动作带动错开推动板（16）伸出；此时错开推动板（16）中的推动板滑槽（17）与收集盘凹槽相对齐；

3）分料搬移装置下移穿过推动板滑槽（17）将收集盘凹槽中的钕铁硼永磁体吸取搬移完成钕铁硼永磁体上料过程。

10.一种钕铁硼永磁体充磁收集设备，其特征在于，该设备包括工作台和固定在工作台上的上料装置（1）、分料搬移装置（3）和下料装置（4）；上料装置（1）采用权利要求1所述一种钕铁硼永磁体上料装置；分料搬移装置（3）分别与上料装置（1）和下料装置（4）相衔接；上料装置（1）用于钕铁硼永磁体的上料；分料搬移装置（3）用于将钕铁硼永磁体按照设定排列方式分料并且将钕铁硼永磁体搬移到各个工位；下料装置（4）用于将钕铁硼永磁体收集到充磁架中。