[发明专利]一种低彩虹纹聚酯光学膜涂布液及其制备方法

权利要求书

1.一种低彩虹纹聚酯光学膜涂布液的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

1）取润湿剂加入有机溶剂进行稀释，然后缓慢加入到去离子水中，并搅拌均匀，其中去离子水量为配方所需总体水量的50%～80%，制得溶液A；

2）搅拌溶液A,取水性聚氨酯、水性聚酯分别缓慢加入到溶液A中，持续搅拌，制得溶液B；

3）取三聚氰胺树脂加入去离子水进行稀释，缓慢加入到溶液B中，维持搅拌，制得溶液C；

4）搅拌溶液C，取纳米粒子制得水性分散液，溶液中二氧化硅的含量为40%，加入去离子水进行稀释，搅拌均匀后，缓慢加入到溶液C中，然后加入去离子水，搅拌5～30min，利用pH值调节剂调节pH值至8.0～8.5，继续搅拌1～2h，制得固含量为5～15%的水性涂布液；

所述水性聚氨酯的制备步骤为：

取三乙硫醇胺改性偶联剂与纳米二氧化钛反应，制得改性纳米二氧化钛；

取双酚A性环氧树脂与乙二醇胺反应，加入4,4`-二羟基二苯硫醚、环氧氯丙烷反应，制得改性环氧树脂；

取聚氧化丙烯二醇、间苯二甲基二异氰酸酯、2,3-双(2-巯基乙硫基)-1-丙硫醇、1，4-丁二醇-2-磺酸钠为单体反应共聚，并加入改性纳米二氧化钛、改性环氧树脂共混，制得水性聚氨酯；

所述水性聚酯的制备步骤为：取1,4-环己烷二甲醇、联苯二甲酸、对苯二甲酸、2,6-萘二甲酸二甲酯、3-巯基-1-丙磺酸钠为单体共聚，并加入三氟丙基甲基环三硅氧烷反应，制得水性聚酯。

2.根据权利要求1所述的一种低彩虹纹聚酯光学膜涂布液的制备方法，其特征在于，所述步骤2）包括以下步骤：

取水性聚氨酯、水性聚酯混合并高速剪切乳化5～30min后，得到混合树脂，搅拌溶液A并缓慢加入混合树脂，继续搅拌，制得溶液B。

3.一种低彩虹纹聚酯光学膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

1）制片：

取聚酯基材进行干燥，使得干燥后其含水率低于50ppm，于270～290℃温度下熔融、挤出，过滤、计量后三层共挤，流延铸片，形成三层结构的膜片D；

2）纵向拉伸：

取所制膜片D，进行预热，预热温度为70～85℃，然后置于70～85%的红外线加热器内进行加热，以3～4倍的纵向拉伸倍率进行纵向拉伸，形成膜片E；

3）涂布：

取膜片E，将权利要求2制得的涂布液涂布在膜片E的表面，其中单面涂布的湿涂布量在5～15g/m²，制得膜片F；

4）横向拉伸：

取膜片F，进行预热，预热温度为100～130℃，于110～150℃温度下,以3～4倍的横向拉伸倍率进行横向拉伸；

然后于220～250℃的条件下进行热定型处理和烘干固化，处理时间为10～15s，最后于50～120℃温度下，冷却后牵引收卷，此时涂层厚度100～150nm，制得成品聚酯光学膜。

4.根据权利要求1所述的一种低彩虹纹聚酯光学膜涂布液的制备方法制备的涂布液，其特征在于，包括以下重量组分：10～50%水性聚氨酯、10～50%水性聚酯、0.1～1%三聚氰胺树脂、0.5～1.5%有机溶剂、0.05～0.5%润湿剂、0.1～1%纳米粒子、0.01～0.1%pH值调节剂，余量为去离子水。

5.根据权利要求4所述的涂布液，其特征在于：所述水性聚氨酯的固含量为20%，折射率为1.579。

6.根据权利要求4所述的涂布液，其特征在于：所述水性聚酯的固含量为15%，折射率为1.6。

7.根据权利要求4所述的涂布液，其特征在于：所述三聚氰胺树脂的固含量为78～80%。

8.根据权利要求4所述的涂布液，其特征在于：所述有机溶剂为无水乙醇，所述润湿剂为聚醚改性聚硅氧烷、有机氟碳化合物类润湿剂中的一种或多种。

9.根据权利要求4所述的涂布液，其特征在于：所述纳米粒子为二氧化硅，所述纳米粒子的粒径为65nm。