[发明专利]一种针对薄层刻画的方法及系统

权利要求书

1.一种针对薄层刻画的方法，其特征在于，包括如下步骤：

S100、获取研究区分角度叠加数据体，并通过叠前反演获取研究区的背景纵横波速度比值；

S200、获取用于表征零偏移距数据与实测地震数据之间关系的目标函数，其中，

所述零偏移距数据为纵波阻抗反射率褶积子波结果；

所述目标函数是根据纵波阻抗反射率以及近似公式的系数矩阵进行代数计算获得，其中，所述纵波阻抗反射率为界面上下层阻抗差与界面上下层阻抗和之间的比值，所述近似公式的系数矩阵为入射角度和纵横波速度比值；

S300、利用获取的目标函数，对所述分角度叠加数据体进行反演处理，获得研究区的真实零偏移距地震反射数据；

S400、获取基于步骤S300中反演得到的真实零偏移距反射数据的基础上，进行奇偶分量权系数的目标函数构建，获取零偏移距反射数据的奇偶分量权系数，在此基础上获取提高分辨率后的零偏移距反射数据。

2.根据权利要求1所述的针对薄层刻画的方法，其特征在于，还包括步骤S500：在根据步骤S400获得的提高分辨率后的零偏移距反射数据的基础上进行噪声压制和滤波处理获得提高纵向分辨率的零偏移距反射数据。

3.根据权利要求2所述的针对薄层刻画的实验装置，其特征在于，还包括步骤S600：在根据步骤S500中获取的提高纵向分辨率的零偏移距反射数据的基础上进行弹性参数反演，进行对研究区的地质意义分析。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的针对薄层刻画的实验装置，其特征在于，所述步骤S100包括如下子步骤：

S101、在偏移距域共反射点道集的基础上，利用层速度体进行角度域叠前道集的转换；

S102、基于所述步骤S101处理后的叠前道集，分别求取L个不同入射角θ分角度叠加数据体D(θ₁),D(θ₂)...D(θ_L)。

5.根据权利要求4所述的针对薄层刻画的实验装置，其特征在于，在所述步骤S101中，在利用层速度体进行角度域叠前道集的转换之前，还包括进行以叠前反演为目标的优化处理，其中，优化处理包括切除、叠前道集去噪声和道集拉平。