[发明专利]一种降膜式再沸器的多层液体分布装置及方法在审

专利信息
申请号: 202010829300.6 申请日: 2020-08-18
公开(公告)号: CN111974014A 公开(公告)日: 2020-11-24
发明(设计)人: 曹洪海;王学生;陈琴珠;刘建书;杨湖;徐泽辉 申请(专利权)人: 无锡化工装备股份有限公司
主分类号: B01D1/22 分类号: B01D1/22;B01D1/30
代理公司: 苏州国诚专利代理有限公司 32293 代理人: 王丽
地址: 214131 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 降膜式再沸器 多层 液体 分布 装置 方法
【说明书】:

发明公开了一种降膜式再沸器的多层液体分布装置,包括第一层液体分布机构以及第二层液体分布机构;第一层液体分布机构包括第一圆柱形壳体、上盖板以及进液管。本发明,其可保证为降膜式再沸器供应的液体的均匀度较好,可避免液体供应系统内部的液体被污染,可有效防止该装置与降膜式再沸器的连接处出现漏液的不良现象,尤为重要的是可避免液体分配不均,产生偏流,导致降膜管易结焦,甚至局部降膜管干壁的不良现象发生,可以弥补传统的液体分布器本身容易挂垢及堵塞的缺点,可实现均匀度较好的液体快速进入降膜式再沸器内部的目的,有效提高工作效率,便于安装,能够进行有效固定,从而保证工作性能比较稳定。

技术领域

本发明涉及化工生产技术领域,更具体地说,它涉及一种降膜式再沸器的多层液体分布装置及方法。

背景技术

降膜再沸器可蒸发热敏性物料以及浓度或粘度较大的溶液,普遍用于化工、医药、冶金、印染、军工、海水淡化等领域。降膜再沸器具有物料蒸发时间短、蒸发能力高、节约能源、运行费用低、不易结垢、便于清洗且能保证物料在蒸发过程中不变性的优点。为防止“干壁”现象而影响其传热,在降膜式再沸器中必须设计液体分布装置,液体分布器的作用是使物料均匀地分布到每根降膜管中,液体分布器是降膜式再沸器的关键部件,其设计十分重要。

现有的降膜再沸器多采用传统的液体分布器,主要有齿形、导流管形、螺旋沟槽导流管形以及单盘形等,其中盘式分布器应用最为广泛,它们的缺点是本身容易挂垢及堵塞,导致料液分配不均,产生偏流,降膜管易结焦,甚至局部降膜管干壁;其次,传统的液体分布器,为降膜式再沸器的供液速度较慢,导致工作效率低下;另外,传统的液体分布器,安装不便,难以有效固定,导致工作性能不稳定。

为此,提出一降膜式再沸器的多层液体分布装置及方法。

发明内容

针对现有技术存在的不足,本发明的目的在于提供一种降膜式再沸器的多层液体分布装置及方法,其可保证为降膜式再沸器供应的液体的均匀度较好,可避免液体供应系统内部的液体被污染,可有效防止该装置与降膜式再沸器的连接处出现漏液的不良现象,尤为重要的是可避免液体分配不均,产生偏流,导致降膜管易结焦,甚至局部降膜管干壁的不良现象发生,可以弥补传统的液体分布器本身容易挂垢及堵塞的缺点,可实现均匀度较好的液体快速进入降膜式再沸器内部的目的,有效提高工作效率,便于安装,能够进行有效固定,从而保证工作性能比较稳定,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本发明提供了如下技术方案:

一种降膜式再沸器的多层液体分布装置,包括:

第一层液体分布机构,所述第一层液体分布机构包括第一圆柱形壳体、上盖板以及进液管,所述第一圆柱形壳体的底部为封闭结构,且所述第一圆柱形壳体的上部为开口结构,所述第一圆柱形壳体的底壁上均匀开设有若干第一均布孔,且所述第一圆柱形壳体的外部临近其中部固定安装有第一环形配装座,所述上盖板固定且密封地安装在所述第一圆柱形壳体的上部,所述进液管竖直且固定地安装在所述上盖板的上部中心位置处,且所述进液管与所述第一圆柱形壳体的内部相连通;

第二层液体分布机构,所述第二层液体分布机构包括第二圆柱形壳体以及若干连接管,所述第二圆柱形壳体的上部为开口结构,且所述第二圆柱形壳体的底部为封闭结构,所述第二圆柱形壳体的底壁上均匀开设有若干第二均布孔,且所述第二圆柱形壳体的外部对齐其上部边缘固定安装有第二环形配装座,所述第二环形配装座通过螺栓与所述第一环形配装座固定连接,若干所述连接管均固定安装在所述第二圆柱形壳体的底壁底部,每个所述连接管分别对应一个所述第二均布孔设置,且每个所述连接管分别通过一个所述第二均布孔与所述第二圆柱形壳体的内部相连通;

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